[發明專利]一種金屬箔及其制備方法和制備設備

無效

• 申請號: 200910018947.4
• 申請日: 2009-09-21
• 公開（公告）號: CN101660181A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: 畢研文;宋小斌;王乃用;江衍勤;羅衍濤;姜守振;李常興;蘇衍憲;張強;孟國強
• 申請（專利權）人: 菏澤天宇科技開發有限責任公司
• 主分類號: C25D1/04
• 分類號: C25D1/04
• 代理公司: 濟南泉城專利商標事務所
• 代理人: 張貴賓

1.一種金屬箔制備方法，其特征在于：由以下步驟依次組成：

a.電沉積：以工業純金屬為陽極，該金屬的氨基磺酸鹽或者硫酸鹽的水溶液為鍍液，使金屬離子沉積在連續轉動的陰極輥上，連續生長連續剝離；電沉積在鍍槽內進行，通過調整電流大小、陰極輥轉動速度，制備出不同厚度的金屬鍍層；

b.剝離：利用陰極輥與收卷系統轉動產生的拉力，將沉積在陰極輥上的金屬鍍層連續剝離下來；

c.清洗：剝離下來的連續的金屬鍍層通過清洗槽中的清洗液先浸泡清洗，后噴淋清洗，洗掉殘留鍍液；

d.收卷：采用帶有衡張力控制的收卷系統進行。

2.根據權利要求1所述的金屬箔制備方法，其特征在于：所述的金屬箔為鎳箔、銅箔或鐵-鎳納米晶合金箔。

3.根據權利要求2所述的金屬箔制備方法，其特征在于：制備鎳箔時，電沉積步驟所用的鍍液為氨基磺酸鹽型或硫酸鹽型，其工藝參數如下：氨基磺酸鹽型：

氨基磺酸鎳Ni(NH₂SO₃)₂·4H₂O??250-600g/L

氯化鎳NiCl₂·6H₂O????????????5-20g/L

氟化鈉NaF????????????????????1-5g/L

硼酸H₃BO₃????????????????????20-50g/L

PH值?????????????????????????3-3.5

電流密度?????????????????????2-10A/dm²

溫度?????????????????????????40-50℃

硫酸鹽型：

硫酸鎳NiSO₄·7H₂O????????????180-300g/L

氯化鎳NiCl₂·6H₂O????????????20-50g/L

硼酸H₃BO₃????????????????????30-45g/L

PH值?????????????????????????4.0-4.5

電流密度????????????????2-10A/dm²

溫度????????????????????40-55℃。

4.根據權利要求2所述的金屬箔制備方法，其特征在于：制備鐵-鎳納米晶合金箔時，鍍液為NiSO4及FeSO4電解質體系，工藝參數如下：

硫酸鎳NiSO₄.7H₂O????????150-260g/L

氯化鎳NiCI₂.6H₂O????????25-55g/L

硼酸H₃BO₃???????????????35-55g/L

硫酸亞鐵FeSO₄.7H₂O??????10-35g/L

PH??????????????????????3.0-3.8

溫度????????????????????55-65℃

電流密度????????????????2-10A/dm²

鎳陽極：鐵陽極重量比????7-14∶1

攪拌????????????????????陰極移動循環攪拌。

5.一種金屬箔，其特征在于：由權利要求1-4中任意一條所述的方法制成。

6、一種權利要求1所述金屬箔制備方法使用的制備設備，其特征在于：包括由前向后依次設置在機架上的鍍槽(1)、清洗槽(2)和收卷系統(3)，在清洗槽的前上方和后上方設有牽引剝離裝置(4)，鍍槽內設有仿形鈦籃(5)和可轉動的陰極輥(6)，仿形鈦籃呈半圓弧形并位于陰極輥下面。

7.根據權利要求6所述的制備設備，其特征在于：仿形鈦籃(5)上裝有陽極自動密實裝置(7)。