[發明專利]一種等離子熔覆用合金粉末有效
| 申請號: | 200910018107.8 | 申請日: | 2009-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN101654768A | 公開(公告)日: | 2010-02-24 |
| 發明(設計)人: | 劉均波 | 申請(專利權)人: | 劉均波 |
| 主分類號: | C23C4/06 | 分類號: | C23C4/06;C22C27/06;C22C30/00 |
| 代理公司: | 濰坊鳶都專利事務所 | 代理人: | 臧傳進 |
| 地址: | 261061山東省濰坊市高新技*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子 熔覆用 合金 粉末 | ||
技術領域
本發明涉及金屬構件表面耐磨強化的一種噴焊用合金粉末,具體涉及一種等離子熔覆用合金粉。?
背景技術
金屬陶瓷復合涂層,尤其是以碳化物為增強相的金屬陶瓷復合涂層在航空、航天、冶金、礦山、石油和化工等領域中的耐磨構件的制造和修復中具有廣泛的用途。目前,以碳化物為增強相的金屬陶瓷復合涂層中的陶瓷相通常采用外加復合的方式預制在原材料表面,涂層中陶瓷相分布不均勻,粒度較粗大,陶瓷/金屬結合界面易受污染,這將大大影響涂層的性能。近年來產生了一種制備金屬陶瓷的新方法一反應等離子熔覆,它將原位合成技術和等離子熔覆技術相結合,利用粉末和粉末之間的反應,在熔覆過程中同時完成復合材料的合成。原位反應合成過程中放出的反應熱,可以提高熔覆溫度,降低涂層的孔隙率,改善涂層與基體的結合;而且原位合成的硬質相顆粒細小,分布均勻,硬質相與金屬基體的結合界面潔凈。因此反應等離子熔覆克服了傳統等離子熔覆金屬陶瓷工藝的缺點,在制備金屬陶瓷復合涂層方面具有不可比擬的優勢。?
近年來國內外在金屬陶瓷復合涂層反應等離子熔覆方面已有相當的研究,但反應等離子熔覆技術并未真正在工程實際中獲得全面的應用,存在的主要問題金屬陶瓷復合涂層等離子熔覆工藝復雜,表面裂紋多,涂層中殘留有害相,導致涂層的組織不均勻,涂層質量不穩定。由以上可以看出,目前市場缺乏一種用來制備等離子熔覆工藝簡單,表面無裂紋,涂層組織均勻,涂層質量穩定的金屬陶瓷復合涂層的等離子熔覆用合金粉末。?
發明內容
本發明要解決的技術問題是克服現有技術制備的金屬陶瓷復合涂層等離子熔覆工藝復雜,表面裂紋多,涂層中殘留有害相,導致涂層的組織不均勻,涂層質量不穩定的缺點,提供一種等離子熔覆用合金粉末。?
為解決上述技術問題,本發明主要由以下質量百分比的元素組成:鉻41%-46%,鈦6%-25%,硼2.1%-3%,硅5-6%,碳6.6%-8%,鎳5%-12%;所述的鉻元素和碳元素是以高碳鉻鐵粉的形式添加,其中,高碳鉻鐵粉中的鉻含量為50%-70%,碳含量為2%-8%;所述的硼元素是以硼鐵粉的形式添加,其中硼鐵粉中的硼含量為10%-30%;所述的鈦元素是以鈦鐵粉或以鈦粉或以鈦鐵粉和鈦粉混合的形式添加,其中,鈦鐵粉中的鈦含量為30%-72%,余量為Fe及不可避免的雜質。?
以上所述的各種粉的粒度在30-350μm之間。?
與現有技術相比,本發明具有較好的綜合性能,這體現在以下幾個方面:?
1、具有良好的工藝性:本發明粉末經等離子等離子熔覆后,涂層表面平滑均勻,裂紋少,無脫落掉塊,因此既可用于手工等離子熔覆,又可用于自動等離子熔覆;?
2、具有較好的抗磨性:由于Cr,Ti,Ni,B,C,Si等合金元素加入量較大,硬質合金化合物數量多,硬度高,自身抗磨性很好;?
3、由于本發明的等離子熔覆用合金粉末沒有使用純鉻粉,而是由價格低的高碳鉻鐵組成,所以成本低,性價比高,使用廣泛,可用于修復耐磨件,以及其它一些需要耐磨和減磨的金屬機構件的表面耐磨強化。?
下面結合實施例對本發明的等離子熔覆用合金粉末作進一步詳細說明:?
實施例1?
等離子熔覆用合金粉末,按質量百分比計,其組成配比為:鉻45%,鈦6%,硼2.1%,硅6%,碳6.1%,鎳5%,余量為鐵及不可避免的雜質。?
實施例2?
具體實施方式
等離子熔覆用合金粉末,按質量百分比計,其組成配比為:鉻50%,鈦25%,硼4%,硅2%,碳6.6%,鎳2%,余量為鐵及不可避免的雜質。?
實施例3?
等離子熔覆用合金粉末,按質量百分比計,其組成配比為:鉻48%,鈦10%,硼5%,硅4%,碳7%,鎳8%,余量為鐵及不可避免的雜質。?
實施例4?
等離子熔覆用合金粉末,按質量百分比計,其組成配比為:鉻46%,鈦15%,硼3.5%,硅1.5%,碳7.5%,鎳10%,余量為鐵及不可避免的雜質。?
實施例5?
等離子熔覆用合金粉末,按質量百分比計,其組成配比為:鉻41%,鈦20%,硼3%,硅5%,碳8%,鎳12%,余量為鐵及不可避免的雜質。?
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C23C4-00 熔融態覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





