[發明專利]一種三維結構的異質結器件的制備方法無效
| 申請號: | 200910016216.6 | 申請日: | 2009-06-16 |
| 公開(公告)號: | CN101577228A | 公開(公告)日: | 2009-11-11 |
| 發明(設計)人: | 武衛兵;胡廣達;崔守剛 | 申請(專利權)人: | 濟南大學 |
| 主分類號: | H01L21/329 | 分類號: | H01L21/329;C25D9/04 |
| 代理公司: | 濟南泉城專利商標事務所 | 代理人: | 李桂存 |
| 地址: | 250022山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三維 結構 異質結 器件 制備 方法 | ||
1.一種三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)在基體上生長取向n型ZnO納米棒陣列薄膜;(2)將p型半導體從未被活化的前驅體溶液中電化學沉積在ZnO納米棒表面,實現p型半導體對ZnO納米棒的保形覆蓋;(3)對上述前驅體溶液進行活化,將p型半導體自下而上充分填充到納米棒陣列的空隙中;(4)在p型半導體層的上表面濺射金屬或氧化物導電層電極,制備出三維結構的異質結器件;
所述p型半導體為CuSCN、Cu2O或CdTe;所述前驅體溶液的pH值為5.5~10.5。
2.根據權利要求1所述的三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于:所述n型ZnO納米棒陣列的形貌特征為:種子層的厚度為100-200nm,棒直徑為30-150nm,棒長度為1~10μm,棒間距為50~150nm。
3.根據權利要求1或2所述的三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于:所述金屬或氧化物導電層電極Au、Pt、ITO、FTO、B:ZnO。
4.根據權利要求1或2所述的三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述未被活化的p型半導體前驅體溶液為:
對p型Cu2O半導體,其前驅體溶液pH=9.0~10.5,其中含有0.05~0.4mol/L的CuSO4或CuCl2、濃度為Cu2+濃度4倍的乙醇胺、二乙醇胺或乳酸作為絡合劑;
對p型CuSCN半導體,其前驅體溶液含有0.01mol/L~0.2mol/L的CuSO4或CuCl2、離子濃度為Cu2+濃度4倍的二乙醇胺、二乙醇胺或乳酸作為絡合劑、0.01~0.4mol/L的KSCN或NaSCN;
對p型CdTe半導體,其前驅體溶液pH=5.5~7.0,含有0.05~0.2mol/L的CdCl2、0.1~5mmol/L的TeO2。
5.根據權利要求1或2所述的三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于:步驟(2)所述的電化學沉積條件為:
對p型CuSCN和Cu2O半導體,溶液溫度為5-30℃,沉積電位為-0.7~-1.2V;對p型CdTe半導體,溶液的pH=5.5-6,溫度為65~75℃,沉積電位為-0.6~-0.8V;所述電位指的是相對于飽和Ag/AgCl參比電極。
6.根據權利要求1或2所述的三維結構的異質結器件的制備方法,其特征在于:步驟(3)所述的對前驅體溶液進行活化的方法為:
對p型CuSCN和Cu2O半導體,調整溶液溫度為35-65℃,沉積電位為-0.2~-0.8V;
對p型CdTe半導體,調整溶液溫度為75~95℃,pH值為5.5-6.0,沉積電位為-0.8~-1.0V。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





