[發(fā)明專利]液晶顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910009996.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-02-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101504497A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 矢內(nèi)雄二郎;中山元;遠(yuǎn)山浩史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/139 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種液晶顯示裝置,其具有:
具有在黑色顯示時(shí)相對(duì)于基板垂直取向的液晶層的液晶單元;
夾持所述液晶單元、且各自的吸收軸相互正交地配置的第1和第2起 偏器;
配置在所述第1起偏器與所述液晶單元之間、滿足下式(I)和(II) 的相位差膜A;以及
配置在所述第2起偏器與所述液晶單元之間、滿足下式(I)和(II) 的相位差膜B,
所述相位差膜A和B在波長(zhǎng)548nm處的面內(nèi)延遲Re(548)和在波長(zhǎng) 548nm處的厚度方向延遲Rth(548)等同;且所述相位差膜A和B在可見(jiàn) 光區(qū)域的面內(nèi)延遲Re和厚度方向延遲Rth的波長(zhǎng)分散互不相同,其中,所 述波長(zhǎng)分散互不相同是指,以相對(duì)于可見(jiàn)光區(qū)域的各種波長(zhǎng)的光所測(cè)定的 相位差膜的各Re和Rth為縱坐標(biāo)、以可見(jiàn)光區(qū)域的入射光的波長(zhǎng)為橫坐標(biāo) 而繪制的曲線中,其為直線的漸進(jìn)線的斜率不同,
式(I)30nm≤Re(548)≤80nm
式(II)70nm≤Rth(548)≤140nm
Re(λ)表示波長(zhǎng)λ[nm]下測(cè)定的相位差膜的面內(nèi)延遲[nm],Rth(λ) 表示波長(zhǎng)λ[nm]下測(cè)定的相位差膜的膜厚方向的延遲[nm]。
2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其中,所述相位差膜A的面內(nèi) 延遲Re滿足下式(III)~(V)中的任一式,且所述相位差膜B的面內(nèi) 延遲Re滿足與所述相位差膜A的Re滿足的式不同的下式(III)~(V) 中的任一式,
式(III)Re(446)/Re(548)<1且Re(628)/Re(548)>1
式(IV)?Re(446)/Re(548)>1且Re(628)/Re(548)<1
式(V)??|Re(446)-Re(628)|/Re(548)<0.03。
3.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其中,所述相位差膜A的厚度 方向延遲Rth滿足下式(VI)~(VIII)中的任一式,且所述相位差膜B的 厚度方向延遲Rth滿足與所述相位差膜A滿足的式不同的下式(VI)~(VIII) 中的任一式,
式(VI)??Rth(446)/Rth(548)<1且Rth(628)/Rth(548)>1
式(VII)?Rth(446)/Rth(548)>1且Rth(628)/Rth(548)<1
式(VIII)|Rth(446)-Rth(628)|/Rth(548)<0.0125。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其中,所述相位 差膜A和B中的至少一方為降冰片烯類高分子膜。
5.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其中,所述相位 差膜A和B中的至少一方為纖維素酰化物膜。
6.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置,其中,所述纖維素酰化物膜含 有具有選自乙酰基、丙酰基以及丁酰基中的至少1種作為酰基的纖維素酰 化物。
7.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置,其中,所述纖維素酰化物膜含 有具有選自乙酰基、丙酰基以及丁酰基中的至少2種作為酰基的纖維素酰 化物。
8.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置,其中,所述纖維素酰化物膜含 有至少1種在波長(zhǎng)250nm~380nm處有最大吸收的盤狀化合物。
9.如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置,其中,所述纖維素酰化物膜含 有至少1種液晶性化合物。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





