[發明專利]膜管復合體及利用該復合體的高純度氫氣產生裝置

無效

• 申請號: 200910009892.0
• 申請日: 2009-01-24
• 公開（公告）號: CN101785956A
• 公開（公告）日: 2010-07-28
• 發明（設計）人: 雷敏宏;葉冠廷;高玉玲;蔡易秀
• 申請（專利權）人: 碧氫科技開發股份有限公司
• 主分類號: B01D53/22
• 分類號: B01D53/22;B01D71/02;C01B3/38;C01B3/50
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 白益華

1.一種自重組反應產物分離高純度氫氣的膜管復合體，包含：

一第一基材，其系管狀且為多孔性，且于外側覆有一氫分離膜；以及

一第二基材，其系非多孔性且具有一第一端與一第二端，該第一端系與 該第一基材連接，該第二端則與重組反應觸媒接觸，其中該第一端與該第二 端不互通，且該第二基材表面具有化學吸附氫原子的能力。

2.如權利要求1所述的復合體，其中該氫分離膜系鈀或鈀合金膜。

3.如權利要求1所述的復合體，其中該第一基材及該第二基材的材質系 各自獨立選自以下群組：過渡金屬、過渡金屬的合金、陶瓷材料、及其組合。

4.如權利要求3所述的復合體，其中該第一基材及該第二基材的材質系 各自獨立選自以下群組：鐵、鐵合金、銅、銅合金、鎳、鎳合金、氧化鋁、 氧化硅、氧化鈦、氧化鋯、及其組合。

5.如權利要求4所述的復合體，其中該第一基材及該第二基材的材質系 不銹鋼。

6.如權利要求1所述的復合體，另包含一媒介層，位于該第一基材與該 氫分離膜之間。

7.如權利要求6所述的復合體，其中該媒介層系由選自以下群組的物料 所組成：鎳、銅、銀、金、鉑、前述的合金、及其組合。

8.如權利要求7所述的復合體，其中該媒介層系由鎳所組成。

9.如權利要求1所述的復合體，其中該第二基材的外側覆有一金屬膜， 該金屬膜的物料系選自以下群組：過渡金屬、過渡金屬的合金、及其組合。

10.如權利要求9所述的復合體，其中該金屬膜系由選自以下群組的 物料所組成：鎳、鈀、鈷、鐵、金、鋅、鉑、銠、銅、前述的合金、及其組 合。

11.如權利要求10所述的復合體，其中該金屬膜系由選自以下群組的 物料所組成：鎳、鈀、及其組合。

12.如權利要求9所述的復合體，其中該金屬膜具有0.5至3微米的 厚度。

13.如權利要求9所述的復合體，其中當該第二基材的材質系陶瓷材 料時，其表面存在選自以下群組的材料：過渡金屬、過渡金屬的合金、及其 組合。

14.如權利要求13所述的復合體，其中該材料系選自以下群組：鎳、 鈀、鈷、鐵、金、鋅、鉑、銠、銅、前述的合金、及其組合。

15.如權利要求14所述的復合體，其中該材料系選自以下群組：鎳、 鈀、及其組合。

16.一種高純度氫氣產生裝置，其系包含：

一如權利要求1至15所述的任一項的復合體；

一室，包含一進料口、一第一出料口、及一第二出料口；以及

一觸媒，

其中，該觸媒與該復合體系置于該室中，且該觸媒系與該第二基材的第 二端接觸。

17.如權利要求16所述的裝置，其中該觸媒系用以進行甲醇蒸汽重組 反應或正己烷蒸汽重組反應。

18.如權利要求16所述的裝置，其中該觸媒沿該第二基材與該第一基 材的距離為2公分至50公分。

19.如權利要求18所述的裝置，其中該距離為5公分至20公分。