[發明專利]光學薄膜的制造方法及光學薄膜有效
| 申請號: | 200910008363.9 | 申請日: | 2009-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN101520576A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發明(設計)人: | 山田朋文;下田一弘 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;B05D7/04;B05D3/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學薄膜 制造 方法 | ||
1.一種光學薄膜的制造方法,其是在被連續輸送的帶狀基體薄膜上 涂布固化性涂布液,在干燥區用加熱風干燥涂布層,然后在固化區使該涂 布層固化的光學薄膜的制造方法,其特征在于,
在所述干燥區與所述固化區之間隔著間隔設置中間區,
并且,將該中間區的溫度控制成低于所述干燥區的溫度和所述固化區 的溫度的任意一方,而且,
控制成所述中間區的內壓低于所述干燥區的內壓,且所述中間區的內 壓低于所述固化區的內壓,
向所述中間區供給新鮮風。
2.一種光學薄膜的制造方法,
其是在被連續輸送的帶狀基體薄膜上涂布固化性涂布液,在干燥區用 加熱風干燥涂布層,然后在固化區使該涂布層固化的光學薄膜的制造方 法,其特征在于,
在所述干燥區與所述固化區之間隔著間隔設置中間區,
并且,將該中間區的溫度控制成低于所述干燥區的溫度和所述固化區 的溫度的任意一方,而且,
控制成所述中間區的內壓低于所述干燥區的內壓,且所述中間區的內 壓低于所述固化區的內壓,將所述中間區中的所述已氣化的分子量在1000 以下的化合物的氣氛濃度控制為1ppb以下。
3.根據權利要求1或2所述的光學薄膜的制造方法,其特征在于,
在將所述干燥區的內壓表示為P1、將所述中間區的內壓表示為P2、 將所述固化區的內壓表示為P3時,將P2與P1的內壓差ΔP21控制為滿 足0Pa>ΔP21>-10Pa的關系,同時將P3與P2的內壓差ΔP32控制為0< ΔP32≤5Pa。
4.根據權利要求1或2所述的光學薄膜的制造方法,其特征在于,
所述中間區中的吹向所述帶狀薄膜的寬度方向的干燥風成分的風速 為0.7m/秒以下。
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