[發明專利]顯影裝置及成像設備有效
| 申請號: | 200910007683.2 | 申請日: | 2009-02-20 |
| 公開(公告)號: | CN101515147A | 公開(公告)日: | 2009-08-26 |
| 發明(設計)人: | 加藤智宏;村內淳二;南惠;井村知之 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達商用科技株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 田軍鋒;張 文 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 裝置 成像 設備 | ||
1.一種顯影裝置,具有攪拌構件和顯影劑保持器,所述攪拌構件 用于攪拌顯影劑槽內包含調色劑和載體的顯影劑槽盛放的顯影劑同時 沿著輸送通道輸送顯影劑,所述顯影劑保持器設置成與所述攪拌構件相 鄰以將經攪拌的顯影劑槽盛放的顯影劑供給到靜電潛像保持器,所述顯 影裝置包括:
用于將調色劑和載體補充到所述顯影劑槽的顯影劑補充槽,及
排放機構,所述排放機構用于在所述顯影劑槽盛放的顯影劑的量隨 著所述調色劑和所述載體被補充而在所述顯影裝置內逐漸增加并且所 述顯影劑槽內將使用所述攪拌構件輸送的顯影劑槽盛放的顯影劑的量 超過預定量時將過量的顯影劑槽盛放的顯影劑從排放開口區域排放到 所述顯影劑槽外,其中
所述攪拌構件包括上攪拌構件和設置成與所述上攪拌構件相對的 下攪拌構件,
所述輸送通道包括上輸送通道、下輸送通道、循環流動出口、連通 通道并且還包括循環通道,所述上攪拌構件設置在所述上輸送通道中, 所述下攪拌構件設置在所述下輸送通道中,所述循環流動出口設置在所 述上輸送通道的下游側且與所述下輸送通道相對一側上的側壁中,所述 連通通道用于將所述下輸送通道的下游側連接到所述上輸送通道的上 游側,所述顯影劑槽盛放的顯影劑使用所述上輸送通道、所述循環流動 出口、所述下輸送通道和所述連通通道循環通過所述循環通道,
所述排放機構設置在所述上輸送通道的下游端區域中,
所述循環流動出口位于在所述下輸送通道的上游側上輸送的顯影 劑槽盛放的顯影劑的高度上方,并且
所述循環流動出口通過切除分隔壁的上部形成,所述分隔壁用于分 隔所述下輸送通道與所述上輸送通道之間的空間,從而所述顯影劑槽盛 放的顯影劑構造成越過所述切除的分隔壁的上端區域,并朝所述下輸送 通道像瀑布一樣流下,
其特征在于,所述下攪拌構件和所述上攪拌構件分別是第一螺桿和 第二螺桿,其中具有預定節距的螺旋葉緊固到軸上,所述第二螺桿具有 延伸到所述上輸送通道的向前輸送螺桿區域和延伸到顯影劑排放區域 的向前排放螺桿區域,其中在對應于所述循環流動出口和所述下輸送通 道的下游側端區域的每一個位置處,所述第二螺桿具有反向螺桿區域, 所述反向螺桿區域中的螺旋螺桿的螺旋方向與其他區域的螺旋方向相 反,在所述反向螺桿區域的顯影劑排放區域一側上設置有止擋構件,所 述止擋構件用于限制使用所述反向螺桿區域形成的顯影劑槽盛放的顯 影劑的升高移動到顯影劑排放區域一側,通過部分地切除在所述上輸送 通道的輸送方向上位于下游側端區域處的側壁的上部而形成過量流動 切口,所述過量流動切口設置在顯影劑排放區域一側并且位于所述排放 開口區域上方,當顯影劑槽盛放的顯影劑在所述顯影劑槽內增多,并且 所述顯影劑槽內的顯影劑高度升高時,顯影劑槽盛放的顯影劑克服所述 反向螺桿區域和所述止擋構件的阻塞作用越過所述過量流動切口,并溢 流到與之相鄰的所述顯影劑排放區域。
2.如權利要求1所述的顯影裝置,其中所述上輸送通道的底面基 本上平行于所述下輸送通道的底面,并且所述下攪拌構件的外徑大于所 述上攪拌構件的外徑。
3.如權利要求1所述的顯影裝置,其中所述上輸送通道的底面與 所述下輸送通道的底面之間的距離在所述循環流動出口一側變得較大、 并且在所述連通通道一側變得較小,并且所述上攪拌構件的外徑與所述 下攪拌構件的外徑基本相同。
4.如權利要求1所述的顯影裝置,其中所述上輸送通道的底面與 所述下輸送通道的底面之間的距離在所述循環流動出口一側變得較大、 并在所述連通通道一側變得較小,并且所述下攪拌構件的外徑在所述循 環流動出口一側大于所述上攪拌構件的外徑。
5.如權利要求1所述的顯影裝置,其中所述上輸送通道的底面與 所述下輸送通道的底面之間的距離在所述循環流動出口一側變得較大、 并在所述連通通道一側變得較小,并且所述下攪拌構件的外徑在所述循 環流動出口一側的部分處較大、在所述連通通道一側的部分處較小、并 且在其中間部分中逐漸變小。
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