[發(fā)明專利]垂直取向型液晶取向劑和垂直取向型液晶顯示元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910007639.1 | 申請日： | 2009-02-16 |
| 公開（公告）號： | CN101520575A | 公開（公告）日： | 2009-09-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 伊東忍;熊谷勉;吉澤純司;福間聰司;林英治 | 申請（專利權(quán)）人： | JSR株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/1337 | 分類號： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京三幸商標專利事務所 | 代理人： | 劉激揚 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 垂直 取向 液晶 液晶顯示 元件 | ||
1.一種垂直取向型液晶取向劑，其特征在于包含：
(A)選自使四羧酸二酐與含有下述式(1)表示的化合物的二胺 反應而制得的聚酰胺酸及其酰亞胺化聚合物構(gòu)成的物質(zhì)組中的至 少一種聚合物，
(B)選自使四羧酸二酐與含有下述式(2)表示的化合物的二胺 反應而制得的聚酰胺酸及其酰亞胺化聚合物構(gòu)成的物質(zhì)組中的至 少一種聚合物，
式(1)中，A為具有甾體骨架的一價有機基團，式(2)中，B為 具有甾體骨架、三氟甲基苯基、三氟甲氧基苯基、氟代苯基、碳 原子數(shù)為6～10的烷基或碳原子數(shù)為6～10的氟代烷基的一價有 機基團，并且(A)聚合物的含量比率相對于(A)聚合物和(B)聚合物 的合計量為10～90重量％，其中(A)聚合物的合成中所用的上述式 (1)表示的化合物的使用比率，相對于(A)聚合物合成中所用的全部 二胺，為1～30摩爾％，并且(B)聚合物的合成中所用的上述式(2) 表示的化合物的使用比率，相對于(B)聚合物合成中所用的全部二 胺，為1～50摩爾％。
2.權(quán)利要求1所述的垂直取向型液晶取向劑，其中(A)聚合 物為酰亞胺化聚合物，其酰亞胺化率為25～95％。
3.權(quán)利要求1所述的垂直取向型液晶取向劑，其中(B)聚合 物為酰亞胺化聚合物，其酰亞胺化率為25～75％。
4.權(quán)利要求1所述的垂直取向型液晶取向劑，其中(A)聚合 物和(B)聚合物中至少一者的合成中所用的四羧酸二酐含有2，3，5- 三羧基環(huán)戊基醋酸二酐。
5.一種垂直取向型液晶顯示元件，其特征在于具有由權(quán)利要 求1～4任一項所述的垂直取向型液晶取向劑形成的垂直取向型液 晶取向膜。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的
