[發(fā)明專利]金屬材質(zhì)圖案的制法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910007376.4 | 申請(qǐng)日： | 2009-02-17 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101805904A | 公開（公告）日： | 2010-08-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 林寬鋸;許純淵 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 林寬鋸 |
| 主分類號(hào)： | C23C26/00 | 分類號(hào)： | C23C26/00;B44C1/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 程大軍 |
| 地址： | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼： | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬 材質(zhì) 圖案 制法 | ||
1.一種金屬材質(zhì)圖案的制法；其特征在于：該制法包含下列步驟：
(i)提供一玻璃化轉(zhuǎn)變溫度大于等于120℃的基材，并在該基材一表面 區(qū)別出一個(gè)預(yù)定圖案及一個(gè)環(huán)繞該預(yù)定圖案的背景區(qū)；
(ii)在該預(yù)定圖案與背景區(qū)的其中一方，沉積形成至少一層預(yù)定厚度的 金屬層，且該金屬層是由一個(gè)選自以下組中的材料所制成：金、銀，及金 的合金；
(iii)將表面已形成有該金屬層的基材置于一個(gè)腔室中，并對(duì)該腔室抽 真空，及提供一氣體；及
(iv)在一段預(yù)定的時(shí)間長(zhǎng)度內(nèi)，持續(xù)對(duì)該腔室提供一個(gè)微波能量，使 該氣體形成一微波電漿，并作用至該基材上的金屬層，使該金屬層熔融并 形成多個(gè)相間隔且具有預(yù)定粒徑的金屬納米粒子，所述金屬納米粒子的粒 徑為3nm～200nm。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，是利用一個(gè)具有一個(gè)預(yù)定圖案的光罩遮蔽該基材的表面，使該基材的 表面區(qū)別出該預(yù)定圖案及環(huán)繞該預(yù)定圖案的該背景區(qū)。
3.如權(quán)利要求2所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，該光罩上的該預(yù)定圖案為一種鏤空的圖案，所以，在步驟(ii)中，是借 由該光罩鏤空的預(yù)定圖案，在該基材表面的預(yù)定圖案內(nèi)沉積形成該金屬層。
4.如權(quán)利要求2所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，該光罩的預(yù)定圖案為一種實(shí)心的圖案，所以，在步驟(ii)中，是借由該 光罩實(shí)心的預(yù)定圖案遮蔽，在該基材表面的背景區(qū)沉積形成該金屬層。
5.如權(quán)利要求3所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，該基材為陶瓷材料。
6.如權(quán)利要求3所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，該基材為透光材質(zhì)所制成，且其透光率是大于等于85％。
7.如權(quán)利要求6所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(i) 中，該基材為一個(gè)選自以下組中的材質(zhì)所制成：玻璃、云母片、藍(lán)寶石及 透明陶瓷。
8.如權(quán)利要求3所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(ii) 中，該金屬層的厚度為1nm～20nm。
9.如權(quán)利要求8所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(iii) 中，是使該腔室中的壓力降低并維持在0.2torr～6.0torr的范圍。
10.如權(quán)利要求9所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(iii) 中，所提供的氣體為一選自以下組中的氣體：氬氣、氮?dú)饧把鯕狻?
11.如權(quán)利要求6所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(ii) 中，在該基材上形成有多層不同材質(zhì)的金屬層。
12.如權(quán)利要求11所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(ii) 中，所述金屬層的總厚度為1nm～20nm。
13.如權(quán)利要求12所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(ii) 中，每一層金屬層的厚度范圍為0.1nm～19.9nm。
14.如權(quán)利要求13所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(iii) 中，是使該腔室中的壓力降低并維持在0.2torr～6.0torr的范圍。
15.如權(quán)利要求14所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(iv) 中，是使用一發(fā)射微波單元對(duì)該腔室提供該微波能量，且該發(fā)射微波單元 的頻率實(shí)質(zhì)上是設(shè)定為2450MHz。
16.如權(quán)利要求15所述的金屬材質(zhì)圖案的制法，其特征在于：在步驟(iv) 中，所述金屬納米粒子的吸收波長(zhǎng)的峰值為400nm～650nm。
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