[發明專利]測量設備

無效

• 申請號: 200910007273.8
• 申請日: 2009-02-01
• 公開（公告）號: CN101498571A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 西辻豐;木村義治
• 申請（專利權）人: 三豐株式會社
• 主分類號: G01B5/02
• 分類號: G01B5/02;G01B11/02
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 何秀明

技術領域

本發明涉及一種測量設備，并且更具體地涉及一種用于以高的精確度測量位移的測量設備，其適于用作一種包括基底、固定在基底上的標尺座、以及在標尺座上支撐的標尺的測量設備。?

背景技術

在以高精確度測量測量設備的位移時，理想的是固定標尺的標尺座和固定標尺座的基底由制作標尺的同類材料制成，或由與制作標尺的材料具有相近物理性能的材料制成。例如，在標尺由玻璃制成的情況下，標尺座和基底理想地是由玻璃或石材制成。然而，從功能性、可加工性及生產成本角度考慮，在許多情況下，標尺座和基底由與標尺不同的材料制成。例如，標尺由玻璃制成，而標尺座由一種主要成分為鐵的金屬制成，基底是由石材制成的。在這種情況下，由于這三種材料的熱膨脹系數彼此不同，當標尺座因溫度變化而變形時，由于兩者之間熱膨脹系數的不同，標尺座的變形就會使標尺變形，導致需要的測量精度降低。與此相反，正如專利文獻1所述，提出了一種方法，其中標尺座經由摩擦減小材料保持在合適的位置。?

[專利文獻1]JP-A-6-185950?

然而，在專利文獻1所述的方法中，由于標尺座與固定標尺座的軌道之間的熱膨脹系數不同，標尺座不可避免地相對于軌道變形。此外，由于摩擦減小材料的影響，使得標尺易于相對于標尺座滑動，并且在標尺座因溫度變化發生變形的情況下，就會引起一種擔心，即這將使標尺原點相對于標尺座移動。?

發明內容

本發明旨在解決相關工藝中固有的問題，并且其目的在于提供一種測量設備，通過防止標尺、標尺座和/或基底由于它們之間的熱膨脹系數不同引起的熱膨脹或收縮而導致標尺座變形，該測量設備能夠高度精確地用標尺進?行位移測量。?

根據本發明的第一方面，提供了一種測量設備，包括：?

基底；?

在基底的多個位置上固定至基底的標尺座，所述多個位置位于由標尺實施測量的測量方向上；?

支撐在標尺座上的標尺；?

在位于標尺座固定至基底的位置之間的位置中，在標尺座中提供的至少一個狹縫；?

其中，在標尺座固定至基底的兩個或多個位置處，通過標尺座支撐標尺，并且其中，除了標尺座固定至基底的位置以外，基底和標尺座之間在適當位置，以及除了標尺座支撐標尺的位置以外，標尺和標尺座之間在適當位置，標尺座分別具有間隙；該測量設備還包括在標尺座的一端提供的限制元件，用于在測量方向上限制標尺的運動。?

根據本發明的第二方面，提供了一種如本發明第一方面所述的測量設備，進一步包括：?

彈性元件，其按壓標尺抵靠標尺座，從而被支撐在標尺座上?

根據本發明的第三方面，提供一種如本發明第一或第二方面所述的測量設備，進一步包括：?

摩擦減小材料，經由該摩擦減小材料標尺被支撐在標尺座上。?

根據本發明各方面，即使標尺、標尺座和基底是用不同材料制成的，卻可以減小標尺座的變形。由此，可以使標尺保持高度精確地進行位移測量。?

附圖說明

圖1示出根據本發明實施例的測量設備的示意圖；?

圖2A和2B示出集中在標尺座處的測量設備的部分構造的示意圖；?

圖3示出集中在標尺座處的測量設備的部分的透視圖；?

圖4示出在圖3中畫圓圈的部分IV的放大透視圖；?

圖5示出集中在標尺座處的測量設備的部分構造的示意圖；?

圖6A和6B示出沿著在圖5中示出的VIA-VIA線和VIB-VIB線獲得的截?面圖。?

具體實施方式

下文將參照附圖具體描述本發明的實施例。?

現利用圖1至6B描述本發明的第一實施例。圖1所示為根據本發明的第一實施例的測量設備的示意圖，圖2A和2B示出集中在標尺座處的測量設備的部分構造的示意圖，圖3示出集中在標尺座處的測量設備的部分的透視圖，圖4示出在圖3中畫圓圈的部分IV的放大透視圖，圖5示出集中在標尺座處的測量設備的部分構造的示意圖，以及圖6A和6B示出沿著在圖5中示出的VIA-VIA線和VIB-VIB線獲得的截面圖。?

首先，將利用圖1描述根據第一實施例的測量設備的總體結構。?