[發明專利]具有帶粘彈性阻尼層的夾盤的光刻設備

有效

• 申請號: 200910007195.1
• 申請日: 2009-02-19
• 公開（公告）號: CN101515117A
• 公開（公告）日: 2009-08-26
• 發明（設計）人: P·P·赫姆皮內斯;D-J·彼杰沃埃特;Y·K·M·德沃斯;R·I·卡米迪
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王新華

技術領域

本發明涉及一種光刻設備和用于該光刻設備的夾盤。

背景技術

光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上，通常是襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版(reticle)的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案成像到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，圖案的轉移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行的。通常，單獨的襯底將包含被連續形成圖案的相鄰目標部分的網絡。公知的光刻設備包括：所謂的步進機，在步進機中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂的掃描器，在掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。也可能通過將圖案壓印(imprinting)到襯底的方式從圖案形成裝置將圖案轉移到襯底上。

夾盤可以用作圖案形成裝置臺的一部分，以將圖案形成裝置保持并定位在圖案形成裝置臺的相應的支撐結構上。夾盤也用作襯底臺的一部分，以將襯底保持并定位在襯底臺的相應的臺上。當將要從圖案形成裝置轉移朝向襯底的圖案變得越來越小時，對光刻設備的各種部件的要求提高了。特別地，夾盤定位容差減小，這直接影響到用于臺的定位控制系統。

為了驅動和定位物體(例如圖案形成裝置，重量不大于0.5千克)，通常希望使用大約10-15千克的夾盤。對于這樣的夾盤，期望利用大約一千千克重的臺以精確地驅動和定位圖案形成裝置。為了以合理的成本獲得高產量，夾盤的重量可以減小。例如，夾盤可以構造成內部具有肋的盒子結構的玻璃塊。所得的輕量的夾盤能夠實現更輕的部件設置于整個臺，顯著地降低了成本并且提高了產量。

然而，通常這樣的具有高的自然頻率的極輕量的結構具有非常差的阻尼性質。這種差的阻尼性質限制了最適宜的高的臺伺服系統帶寬。

發明內容

本發明旨在改善臺伺服系統帶寬，使得可以將交疊和衰落(fading)進一步推至物理極限。同時，期望能進一步提高產量。更具體地，期望構造夾盤作為具有高的自然頻率并且具有良好的阻尼性質的極輕量結構。

根據本發明的實施例，提供一種光刻設備，所述光刻設備包括：構造成調節輻射束的照射系統；圖案形成裝置支撐結構，所述圖案形成裝置支撐結構構造成支撐圖案形成裝置，圖案形成裝置能夠將圖案在輻射束的橫截面上賦予到輻射束以形成圖案化的輻射束；襯底臺，所述襯底臺構造成保持襯底；投影系統，所述投影系統構造成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上；和夾盤，所述夾盤構造成將圖案形成裝置保持和定位到圖案形成裝置支撐結構上或將襯底保持和定位在襯底臺上，所述夾盤包括基部和與其連接的限制層，并且其中在基部和限制層之間設置包括粘彈性材料的阻尼層。

在本發明的另一實施例中，提供一種夾盤，所述夾盤通常構造成保持和定位物體，所述夾盤包括基部和與其連接的限制層，其中在基部和限制層之間設置包括粘彈性材料的阻尼層。

附圖說明

下面參考示意的附圖僅以示例的方式對本發明的實施例進行描述，在附圖中對應的附圖標記表示對應的部件，在附圖中：

圖1示出根據本發明實施例的光刻設備；

圖2a示意地顯示了根據本發明實施例的具有基部、粘彈性阻尼層和限制層的夾盤的分解圖；

圖2b是對應于圖2a的視圖，其中基部、粘彈性阻尼層和限制層粘結在一起；

圖3示意地顯示了根據本發明實施例的具有分塊的層的夾盤；和

圖4示意地示出了根據本發明實施例的具有第一限制層、粘彈性阻尼層和第二限制層的疊層的夾盤，其中所述疊層將要安裝在基部部分上，兩者同處于非變形狀態或變形狀態。

具體實施方式