[發明專利]無掩模曝光裝置

無效

• 申請號: 200910007180.5
• 申請日: 2009-02-13
• 公開（公告）號: CN101526743A
• 公開（公告）日: 2009-09-09
• 發明（設計）人: 押田良忠;內藤芳達;鈴木光弘
• 申請（專利權）人: 日立比亞機械股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/12;G02B27/09
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司
• 代理人: 張敬強

1.一種無掩模曝光裝置，具有：以預定的間隔排列的多個激光光源、使從上述激光光源出射的激光光束排列成一定的位置關系的軸間距變換裝置、使上述激光光束在y方向掃描的多角鏡、定位成出射側的焦點位置在上述多角鏡的反射面上的長焦透鏡、使掃描的上述激光光束會聚到基板上的fθ透鏡、搭載上述基板并在與上述掃描方向正交的x方向自由移動的載物臺、根據曝光圖形信息控制上述多角鏡的旋轉角和上述載物臺的位置及上述激光光源的控制電路，其特征在于，

上述多個激光光源的每一個具備光束角度調整機構，該光束角度調整機構包含將上述激光光束的出射角度調整到所希望的角度的整形透鏡、用于將出射光調整成平行光的至少一個調整透鏡、保持上述至少一個調整透鏡使其在相對于該調整透鏡的光軸成直角的方向上自由移動的保持機構，

上述光束角度調整機構配置在上述光源和上述軸間距變換裝置之間使得上述調整透鏡的光軸與上述激光光源的設計上的光軸同軸，通過使上述調整透鏡在相對于該光軸成直角的方向上移動，使上述激光光束的光軸與設計上的光軸平行。

2.根據權利要求1所述的無掩模曝光裝置，其特征在于，

上述多個激光光源是半導體激光器，通過配置在上述半導體激光器的出射側的為非球面透鏡的整形透鏡，將從上述半導體激光器出射的激光光束整形成平行光束而入射到上述調整透鏡。

3.根據權利要求1所述的無掩模曝光裝置，其特征在于，

上述光束角度調整機構由使一個焦點位置相同的具有正負焦度的兩個調整透鏡構成。

4.根據權利要求3所述的無掩模曝光裝置，其特征在于，

上述調整透鏡的至少一個可在光軸方向微調。

5.根據權利要求2所述的無掩模曝光裝置，其特征在于，

上述整形透鏡是使從上述半導體激光器出射的激光光束成為發散光束出射的非球面透鏡，

上述光束角度調整機構由具有正焦度的一個調整透鏡構成。

6.根據權利要求2所述的無掩模曝光裝置，其特征在于，

上述整形透鏡是使從上述半導體激光器出射的激光光束成為會聚光束出射的非球面透鏡，上述光束角度調整機構由具有負焦度的一個調整透鏡構成。