[發(fā)明專利]玻璃掩模和掩模保持器的位置對準裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910007136.4
• 申請日: 2009-02-09
• 公開（公告）號: CN101533225A
• 公開（公告）日: 2009-09-16
• 發(fā)明（設計）人: 目黑崇
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

技術領域

本發(fā)明涉及玻璃掩模和掩模保持器的位置對準裝置。

背景技術

在用于印刷電路基板的制造等的曝光裝置中，作為描繪了應曝光的圖案即電路基板等的掩模，主要使用玻璃掩模。該玻璃掩模通常固定在被稱為掩模保持器的框形狀的固定工具上來使用。在將玻璃掩模固定在掩模保持器上時，進行玻璃掩模端面的定位和使用劃線進行目視的位置對準等。

【專利文獻1】日本特開2004—247718號公報

然而，以往分割曝光法等在印刷電路基板的曝光中要求精度高的曝光，對于玻璃掩模和作為曝光對象物的電路基板等的位置對準，開發(fā)利用了精密的位置對準方法和裝置。

然而，在玻璃掩模和掩模保持器的位置對準中，由于如上所述進行玻璃掩模端面的定位和使用劃線進行目視的位置對準等，因而因玻璃掩模的外形尺寸的偏差等而難以進行精度高的位置對準，妨礙了曝光精度的提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是解決上述的現(xiàn)有問題。

為了達到上述目的，本發(fā)明提供了一種玻璃掩模和掩模保持器的位置對準裝置，其特征在于，該位置對準裝置具有：基座，其將支撐玻璃掩模的掩模保持器保持在規(guī)定位置；基準標記，其設在該基座上，與所述保持的掩模保持器具有規(guī)定的位置關系；對準臺，其將所述玻璃掩模保持成至少可朝xy方向和上下方向移動；位置對準用的掩模標記，其設在所述玻璃掩模上；定位裝置，其根據(jù)所述掩模標記和所述基準標記，使所述玻璃掩模移動來定位在針對掩模保持器的預先決定的規(guī)定位置；以及將由所述定位裝置所定位的玻璃掩模固定在掩模保持器上的裝置。

根據(jù)上述結構，可高精度地進行玻璃掩模和掩模保持器的位置對準，進而可提高曝光精度。

期望的是，所述基準標記構成為可描繪在基準標記板上，并與掩模標記重合。

并且期望的是，所述定位裝置構成為具有圖像處理裝置，該圖像處理裝置拍攝所述掩模標記和所述基準標記，并能顯示該掩模標記和基準標記的位置關系。通過使用這種圖像處理裝置，可簡單且精度良好地進行掩模標記和所述基準標記的重合等的位置對準。

所述掩模保持器一般是框形狀，對準臺構成為從框形狀的掩模保持器的下側通過該框形狀的中空部延伸到掩模保持器的上方，由此可構成為將玻璃掩模保持在掩模保持器的上方。根據(jù)這種結構，可緊湊地構成裝置整體，可實現(xiàn)裝置的設置面積的縮小等。

另外期望的是，所述對準臺構成為可朝θ方向移動，并構成為可轉動玻璃掩模。

根據(jù)本發(fā)明的玻璃掩模和掩模保持器的位置對準裝置，具有可高精度地進行玻璃掩模和掩模保持器的位置對準的效果。

附圖說明

圖1是示出本發(fā)明的一個實施方式的概略正視圖。

圖2是示出本發(fā)明的一個實施方式的概略俯視圖。

圖3是示出本發(fā)明的一個實施方式的動作的說明圖。

圖4是本發(fā)明的一個實施方式的基準標記板17和CCD相機18的詳細圖。

圖5是示出本發(fā)明的一個實施方式的動作的說明圖。

標號說明

1：基座；2：對準臺；5：控制裝置；10：X基準位置片；11：Y基準位置片；12：固定氣缸；13：固定氣缸15：上表面16：空間；17：基準標記板；18：CCD相機；19：監(jiān)視器20：移動機構；21：升降器；22：升降器氣缸；23：吸附墊；50：玻璃掩模；51：掩模保持器；60：掩模標記；61：基準標記。

具體實施方式

以下，根據(jù)附圖說明本發(fā)明的實施方式。

圖1是正視圖，圖2是俯視圖。

該位置對準裝置具有基座1和對準臺2。基座1構成為在其上表面15上放置有裝有玻璃掩模50的掩模保持器51，并定位在規(guī)定位置。

上表面15由相互平行的2個部分構成，其間為空間16。

掩模保持器51被放置成架設在2個上表面15、15之間。

如圖2所示，在上表面15上設有X基準位置片10和Y基準位置片11，通過利用固定氣缸12和固定氣缸13使掩模保持器51壓緊該X基準位置片10和Y基準位置片11，可使掩模保持器51精度良好地定位在預先決定的規(guī)定位置。