[發明專利]圖案描繪裝置及圖案描繪方法

無效

• 申請號: 200910006446.4
• 申請日: 2009-02-18
• 公開（公告）號: CN101520610A
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 井上正雄;小八木康幸
• 申請（專利權）人: 大日本網屏制造株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 馬少東;徐 恕

1.一種圖案描繪裝置，在形成有感光材料的基板的多個描繪對象區域分別描繪規則圖案，其特征在于，具有：

光源，

掩模裝置，其形成有單位圖案組，上述單位圖案組使來自上述光源的光通過，在上述基板上形成作為規定的像的一部分的單位像，并且上述單位圖案組的多個開口部在副掃描方向上規則地排列，

多個曝光裝置，將通過上述掩模裝置的上述開口部的光間歇地照射到上述基板上的感光材料上，從而對圖案進行曝光，

主掃描裝置，其使上述基板相對于上述曝光裝置在主掃描方向上相對移動，

副掃描裝置，其使上述基板相對于上述曝光裝置在副掃描方向上相對間歇地移動，

掩模移動裝置，其使上述掩模裝置在主掃描方向及/或副掃描方向上移動，以使上述掩模裝置的上述開口部配置在規定的位置，

上述單位圖案組在上述掩模裝置上至少形成兩種以上，對應于由上述主掃描裝置及/或上述副掃描裝置驅動的上述基板的移動，通過上述掩模移動裝置來移動上述掩模裝置，在形成于上述掩模裝置上的上述單位圖案組中選擇一個進行曝光。

2.根據權利要求1所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

上述多個曝光裝置相對于上述基板，在互相垂直的主掃描方向和副掃描方向上相對移動，并沿著主掃描方向分別對多個掃描區域進行曝光掃描，其中，上述多個掃描區域是從上述基板上的開始位置開始在副掃描方向上按規定寬度規定而成的多個區域，

在上述掩模裝置上形成的多個上述單位圖案組與上述多個掃描區域相對應，在主掃描方向上規則地排列。

3.根據權利要求1或2所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

對上述掩模裝置的上述多個單位圖案組的副掃描方向的寬度進行設定，使得該寬度與在上述曝光裝置進行曝光掃描的各個上述掃描區域中包含的上述描繪對象區域的副掃描方向的寬度相對應。

4.根據權利要求1或2所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

上述多個單位圖案組中包括在副掃描方向上排列規定長度的遮光部和至少兩個光通過口部而構成的單位圖案組，

上述光通過口部是通過排列上述開口部而構成的光通過口部，

上述規定長度的遮光部形成在上述光通過口部之間。

5.根據權利要求1或2所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

上述掩模裝置的上述多個單位圖案組中包括在上述開口部的主掃方向及/或副掃描方向上比例互不相同的多個單位圖案組。

6.根據權利要求5所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

構成上述單位圖案組的多個開口部都以相等間距排列在副掃描方向上。

7.根據權利要求1或2所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

上述掩模裝置還具有基準圖案，上述基準圖案是形成在上述基板上的像的基準點。

8.根據權利要求1或2所述的圖案描繪裝置，其特征在于，

上述掩模裝置還具有用于識別規定信息的識別圖案。

9.一種圖案描繪方法，用于圖案描繪裝置，該圖案描繪裝置在形成有感光材料的基板的多個描繪對象區域分別描繪規則圖案，并且，上述圖案描繪裝置具有光源和掩模裝置，上述掩模裝置形成有單位圖案組，上述單位圖案組使來自上述光源的光通過，在基板上形成作為規定的像的一部分的單位像，并且上述單位圖案組的多個開口部在副掃描方向上規則地排列，該圖案描繪方法的特征在于，包括：

掃描工序，通過主掃描裝置及/或副掃描裝置使多個曝光裝置相對于上述基板在互相垂直的主掃描方向和副掃描方向上相對移動，并沿著主掃描方向分別對多個掃描區域進行曝光掃描，其中，上述曝光裝置將通過上述掩模裝置的上述開口部的光間歇地照射到上述基板上的感光材料上，從而對圖案進行曝光，上述主掃描裝置使上述基板相對于上述曝光裝置而在主掃描方向上相對移動，上述副掃描裝置使上述基板相對于上述曝光裝置而在副掃描方向上相對間歇移動，上述多個掃描區域是從上述基板上的開始位置開始在副掃描方向上按規定寬度規定而成的多個區域；

選擇工序，在上述掃描工序之前，對應于由上述主掃描裝置及/或上述副掃描裝置驅動的上述基板的移動，通過上述掩模移動裝置移動上述掩模裝置，在形成于上述掩模裝置上的上述單位圖案組中選擇一個進行曝光。