[發(fā)明專利]位移檢測(cè)裝置及具有該位移檢測(cè)裝置的光學(xué)儀器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910004460.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-02-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101520312A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中川英法 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G01B11/02 | 分類號(hào): | G01B11/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 楊國(guó)權(quán) |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 位移 檢測(cè) 裝置 具有 光學(xué)儀器 | ||
1.一種位移檢測(cè)裝置,包括:
被配置成將光投射到待檢物體的光源,所述光源能相對(duì)于待檢物體移動(dòng);
第一反射元件,被固定到待檢物體,并且包括非反射部分以及被配置成反射來自所述光源的光的反射部分;
第一光接收元件,被配置成接收由所述第一反射元件反射的光;
第二反射元件,被固定到待檢物體,并且包括非反射部分以及被配置成反射來自所述光源的光的反射部分;以及
第二光接收元件,被配置成接收由所述第二反射元件反射的光;
其中所述第二反射元件被設(shè)置在來自所述光源并經(jīng)由所述第一反射元件行進(jìn)的光的至少一部分被導(dǎo)引到所述第二光接收元件所通過的光路上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位移檢測(cè)裝置,還包括設(shè)置在所述第一反射元件的遠(yuǎn)離所述第一和第二光接收元件的一側(cè)的雜散光防止部件,所述雜散光防止部件具有被配置成將透過所述第一反射元件的非反射部分的光反射到與朝著所述第一光接收元件的方向不同的方向的反射表面,其中所述第二反射元件被設(shè)置在如下光路上,即,沿著該光路,來自所述光源的、透過所述第一反射元件的非反射部分并然后被所述雜散光防止部件反射的光的至少一部分被導(dǎo)引到所述第二光接收元件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的位移檢測(cè)裝置,其中所述雜散光防止部件被處理成減小對(duì)透過所述第一反射元件的非反射部分的光的反射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的位移檢測(cè)裝置,其中所述處理包括使用抗反射涂料。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的位移檢測(cè)裝置,其中所述處理包括使用氧化膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的位移檢測(cè)裝置,其中利用由所述第一光接收元件接收到的光來檢測(cè)待檢物體的相對(duì)位移,并且利用由所述第二光接收元件接收到的光來檢測(cè)待檢物體的絕對(duì)位移。
7.一種光學(xué)儀器,包括:
作為待檢物體的光學(xué)部件;和
根據(jù)權(quán)利要求1-6中的任一項(xiàng)所述并且被配置成檢測(cè)光學(xué)部件的位移的位移檢測(cè)裝置。
8.一種位移檢測(cè)裝置,包括:
被配置成將光投射到待檢物體的光源,所述光源能相對(duì)于待檢物體移動(dòng);
第一反射元件,被固定到待檢物體,并且包括非反射部分以及被配置成反射來自所述光源的光的反射部分;
第一光接收元件,被配置成接收由所述第一反射元件反射的光;
第二反射元件,被固定到待檢物體,并且包括非反射部分以及被配置成反射來自所述光源的光的反射部分;
第二光接收元件,被配置成接收由所述第二反射元件反射的光;以及
被配置成在其中容納并保持所述光源、所述第一反射元件、所述第一光接收元件、所述第二反射元件以及所述第二光接收元件的殼體,所述殼體具有內(nèi)壁,該內(nèi)壁包括被配置成當(dāng)透過所述第一反射元件的非反射部分的光入射在所述內(nèi)壁上時(shí)減少?gòu)钠浔粚?dǎo)向所述第二光接收元件的光的部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的位移檢測(cè)裝置,其中由所述內(nèi)壁所包括的所述部分包括光阻擋槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的位移檢測(cè)裝置,其中由所述內(nèi)壁所包括的所述部分包括形成在所述內(nèi)壁上的光阻擋部件。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的位移檢測(cè)裝置,其中由所述內(nèi)壁所包括的所述部分包括形成在所述內(nèi)壁上的反射表面。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的位移檢測(cè)裝置,其中利用由所述第一光接收元件接收到的光來檢測(cè)待檢物體的相對(duì)位移,并且利用由所述第二光接收元件接收到的光來檢測(cè)待檢物體的絕對(duì)位移。
13.一種光學(xué)儀器,包括:
作為待檢物體的光學(xué)部件;和
根據(jù)權(quán)利要求8-12中的任一項(xiàng)所述并且被配置成檢測(cè)光學(xué)部件的位移的位移檢測(cè)裝置。
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