[發(fā)明專利]構(gòu)建到半導(dǎo)體集成電路中的電器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910003276.4 | 申請(qǐng)日: | 2009-02-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101492149A | 公開(公告)日: | 2009-07-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小島章弘;杉崎吉昭;下岡義明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào): | B81B7/02 | 分類號(hào): | B81B7/02;H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人: | 楊曉光;于 靜 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 構(gòu)建 半導(dǎo)體 集成電路 中的 器件 | ||
1.一種電器件,包括:
基底,配置為包括功能元件;
絕緣的第一膜,配置為與基底一起形成容納功能元件的腔體并且包括多個(gè)通孔;
絕緣的第二膜,配置為覆蓋所述多個(gè)通孔,絕緣的第二膜形成在第一膜上,并且透氣性高于第一膜的透氣性;
絕緣的第三膜,配置為至少形成在第二膜上,絕緣的第三膜的透氣性低于第二膜的透氣性;以及
絕緣的第四膜,配置為形成在第三膜上,絕緣的第四膜的彈性高于第三膜的彈性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,還包括:
絕緣的第五膜,配置為覆蓋第二膜的側(cè)表面,絕緣的第五膜的透氣性低于第二膜的透氣性,
其中第三膜形成在第二膜的上表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的器件,其中第五膜和第三膜包含相同的材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的器件,還包括:
電極,配置為形成在第二膜外部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的器件,還包括:
布線,其一端連接到功能元件,另一端延伸到第二膜外部;
有機(jī)膜,其與第二膜分離,覆蓋布線的所述另一端,且包括對(duì)應(yīng)于布線的所述另一端的開口;以及
凸起,其形成在有機(jī)膜上,包圍所述開口,并且連接到布線的所述另一端。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,其中
第一膜是主要包含Si-O鍵的硅化合物;
第二膜是主要包含碳的以下樹脂中的任何一種:熱固型樹脂、可紫外線固化的樹脂和電子束固化型樹脂;?
第三膜是主要包含Si-N鍵的硅化合物;以及
第四膜是環(huán)氧樹脂和聚酰亞胺樹脂之一。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的器件,其中第二膜封閉每個(gè)通孔。
8.一種半導(dǎo)體器件,包括:
基底,配置為包括功能元件;
絕緣的第一膜,配置為形成在基底上,絕緣的第一膜形成容納功能元件的腔體并且包括多個(gè)通孔;
絕緣的第二膜,配置為形成在通孔中,絕緣的第二膜覆蓋所述多個(gè)通孔中的每一個(gè),并且透氣性高于第一膜的透氣性;
絕緣的第三膜,配置為形成在第一膜和第二膜上,絕緣的第三膜的透氣性低于第二膜的透氣性;以及
絕緣的第四膜,配置為形成在第三膜上,絕緣的第四膜的彈性高于第三膜的彈性。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的器件,還包括:
絕緣的第五膜,配置為覆蓋第二膜的側(cè)表面,該絕緣的第五膜的透氣性低于第二膜的透氣性。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的器件,還包括:
電極,配置為形成在第二膜外部,電極電連接到功能元件。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的器件,還包括:
布線,其一端連接到功能元件,另一端延伸到第二膜外部;
有機(jī)膜,其與第二膜分離,覆蓋布線的所述另一端,并且包括對(duì)應(yīng)于布線的所述另一端的開口;以及
凸起,其形成在有機(jī)膜上,包圍所述開口,并且連接到布線的所述另一端。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的器件,其中
第一膜是主要包含Si-O鍵的硅化合物;
第二膜是主要包含碳的以下樹脂中的任何一種:熱固型樹脂、可紫外線固化的樹脂和電子束固化型樹脂;?
第三膜是主要包含Si-N鍵的硅化合物;以及
第四膜是環(huán)氧樹脂和聚酰亞胺樹脂之一。
13.一種電器件的制造方法,包括以下步驟:
在具有功能元件的基底上形成具有多個(gè)通孔的絕緣的第一膜,第一膜與基底一起形成容納功能元件的腔體;
在第一膜上形成覆蓋所述多個(gè)通孔的絕緣的第二膜,絕緣的第二膜的透氣性高于第一膜的透氣性;
在形成第二膜之后,將腔體中的水蒸氣釋放到第二膜的外部;
在釋放水蒸氣之后,在第二膜上形成絕緣的第三膜,絕緣的第三膜的透氣性低于第二膜的透氣性;以及
在第三膜上形成絕緣的第四膜,絕緣的第四膜的彈性高于第三膜的彈性。
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