[發(fā)明專利]磁盤(pán)及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910001714.3
• 申請(qǐng)日: 2005-01-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101494058A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 下川貢一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G11B5/725
• 分類號(hào): G11B5/725;G11B5/84;C10M107/38;C10M177/00
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 陳 昕

本申請(qǐng)為申請(qǐng)?zhí)?00580002462.6、申請(qǐng)日2005年1月12日、發(fā)明名稱“磁盤(pán)用潤(rùn)滑劑及其制造方法、磁盤(pán)及其制造方法”的分案申請(qǐng)。?

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于形成裝在硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器等磁盤(pán)裝置上的磁盤(pán)的潤(rùn)滑層的潤(rùn)滑劑及其制造方法以及磁盤(pán)及其制造方法。?

背景技術(shù)

在硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)等磁盤(pán)裝置中，在停止時(shí)，在磁盤(pán)面的內(nèi)周區(qū)域上設(shè)置的接觸滑動(dòng)用區(qū)域(CSS區(qū)域)中接觸磁頭，在起動(dòng)時(shí)，使磁頭在CSS區(qū)域中與盤(pán)面接觸滑動(dòng)，同時(shí)浮起后，在CSS區(qū)域外側(cè)設(shè)置的記錄再生用的盤(pán)區(qū)域面上進(jìn)行記錄再生，可以采用CSS(Contact?Startand?Stop)方式。在結(jié)束動(dòng)作時(shí)，使磁頭從記錄再生區(qū)域到CSS區(qū)域避開(kāi)后，在CSS區(qū)域中與盤(pán)面接觸滑動(dòng)，同時(shí)使其著地、停止。在CSS方式中，把發(fā)生接觸滑動(dòng)的起動(dòng)動(dòng)作及結(jié)束動(dòng)作稱為CSS動(dòng)作。?

在這樣的CSS方式用磁盤(pán)中必須在盤(pán)面上設(shè)置CSS區(qū)域和記錄再生區(qū)域兩者。另外，必須在磁盤(pán)面上設(shè)置具有一定表面粗糙度的凹凸形狀，以使在磁頭和磁盤(pán)接觸時(shí)兩者不互相吸附。?

為了通過(guò)在CSS動(dòng)作時(shí)發(fā)生的磁頭和磁盤(pán)的接觸滑動(dòng)來(lái)緩和損傷，例如，根據(jù)特開(kāi)昭62-66417號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)等可以了解涂布了具有HOCH₂-CF₂O-(C₂F₄O)_p-(CF₂O)_q-CH₂OH結(jié)構(gòu)的全氟烷基聚醚潤(rùn)滑劑的磁記錄介質(zhì)等。?

另外，同樣作為CSS耐久性高的磁記錄介質(zhì)，特開(kāi)平9-282642號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)和特開(kāi)平10-143838號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)3)被人們所熟悉。進(jìn)而，作為使用由超臨界萃取法精制而成的潤(rùn)滑劑、具有良好的滑動(dòng)性及CSS耐久性的磁記錄介質(zhì)，特開(kāi)2001-164279號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)4)被人們所熟悉。?

專利文獻(xiàn)1：特開(kāi)昭62-66417號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)2：特開(kāi)平9-282642號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)3：特開(kāi)平10-143838號(hào)公報(bào)?

專利文獻(xiàn)4：特開(kāi)2001-164279號(hào)公報(bào)?

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的課題?

最近正在取代CSS方式引入LUL(Load?Unload：加載卸載)方式的磁盤(pán)裝置。LUL方式是在停止時(shí)使磁頭退避到位于磁盤(pán)外的被稱為坡道的傾斜臺(tái)，在起動(dòng)時(shí)，在磁盤(pán)開(kāi)始運(yùn)轉(zhuǎn)后，使磁頭從坡道向磁盤(pán)上滑動(dòng)，之后進(jìn)行再記錄。該一連串的動(dòng)作被稱為L(zhǎng)UL動(dòng)作。LUL方式與CSS方式相比，由于可以廣泛確保磁盤(pán)面上的記錄再生用區(qū)域，故對(duì)高信息容量化優(yōu)選。另外，由于不必在磁盤(pán)面上設(shè)置CSS用的凹凸形狀，可以使磁盤(pán)面非常平滑，因此，由于可以使磁頭的上浮量進(jìn)一步下降，可以適于記錄信號(hào)的高S/N比化。?

由于隨著LUL方式的導(dǎo)入，使磁頭的上浮量進(jìn)一步下降，即使在10nm以下的極低的上浮量中也可以謀求磁盤(pán)穩(wěn)定動(dòng)作。然而，若以這樣的極低的上浮量使磁頭在磁盤(pán)面上浮起飛行，會(huì)產(chǎn)生飛毛靜磨擦故障(fly-stiction?trouble)和頭腐蝕故障頻發(fā)的問(wèn)題。?

所謂飛毛靜磨擦故障是在磁頭浮起飛行時(shí)導(dǎo)致浮起姿勢(shì)或上浮量改變的故障，其伴隨著不規(guī)則的再生輸出改變。有時(shí)根據(jù)場(chǎng)合在浮起飛行中磁盤(pán)和磁頭接觸發(fā)生磁頭壓扁故障，破壞磁盤(pán)。?

所謂腐蝕故障是磁頭的元件部腐蝕、導(dǎo)致妨害記錄再生的故障，根據(jù)場(chǎng)合有時(shí)不能記錄再生或腐蝕元件膨脹，在浮起飛行中給磁盤(pán)表面造成損傷。?

另外，最近為了使磁盤(pán)裝置的應(yīng)答速度加快，正在提高磁盤(pán)的轉(zhuǎn)動(dòng)速度。適合可攜帶用途的小徑2.5英寸型磁盤(pán)裝置的轉(zhuǎn)數(shù)現(xiàn)在是4200rpm左右，但最近通過(guò)以5400rpm以上的高速轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行應(yīng)答特性提高。?

若以這樣的高速使磁盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，隨著轉(zhuǎn)動(dòng)由于離心力使?jié)櫥瑢右苿?dòng)(遷移)，可以使磁盤(pán)面內(nèi)潤(rùn)滑層膜厚形成不均勻的現(xiàn)象明顯化。?

若在盤(pán)外周側(cè)潤(rùn)滑層膜厚肥厚，在LUL動(dòng)作時(shí)，磁頭從盤(pán)外周側(cè)進(jìn)入時(shí)，容易發(fā)生飛毛靜磨擦故障或頭壓扁的故障，而若在內(nèi)周側(cè)潤(rùn)滑層膜厚減少，由于潤(rùn)滑性能下降，容易發(fā)生頭壓扁的故障。?