[發(fā)明專利]包括至少一個(gè)再循環(huán)單獨(dú)回路的旋轉(zhuǎn)床吸附系統(tǒng)以及設(shè)計(jì)和操作這種系統(tǒng)的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910001614.0
• 申請(qǐng)日: 2004-09-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101537297A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-09-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·A·丁納吉;S·C·布里克利
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蒙特斯公司
• 主分類號(hào): B01D53/06
• 分類號(hào): B01D53/06
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 趙培訓(xùn)

1.一種旋轉(zhuǎn)吸附床系統(tǒng)，包括在操作循環(huán)中穿過(guò)多個(gè)區(qū)段的吸附劑材料的旋轉(zhuǎn)盤(pán)，所述多個(gè)區(qū)段包括工作區(qū)段、再生區(qū)段、以及至少一個(gè)單獨(dú)區(qū)段，其中再生區(qū)段和至少一個(gè)單獨(dú)區(qū)段每一個(gè)都比工作區(qū)段更大程度地沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸。

2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一個(gè)單獨(dú)區(qū)段比再生區(qū)段更大程度地沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸。

3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，再生區(qū)段沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸成比工作區(qū)段大至少一個(gè)波紋高度，并且所述至少一個(gè)單獨(dú)區(qū)段沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸成比再生區(qū)段大至少一個(gè)波紋高度，其中，所述波紋高度指的是在流體流流過(guò)的吸附劑盤(pán)上的通道的最寬尺寸。

4.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，吸附劑材料在操作循環(huán)中穿過(guò)多個(gè)單獨(dú)區(qū)段，并且每個(gè)單獨(dú)區(qū)段比工作區(qū)段和再生區(qū)段二者更大程度地沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸。

5.如權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，再生區(qū)段沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸成比工作區(qū)段大至少一個(gè)波紋高度，并且每個(gè)單獨(dú)區(qū)段沿徑向向外朝吸附劑盤(pán)的外周延伸成比再生區(qū)段大至少一個(gè)波紋高度，其中，所述波紋高度指的是在流體流流過(guò)的吸附劑盤(pán)上的通道的最寬尺寸。

6.如權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述多個(gè)單獨(dú)區(qū)段與一個(gè)或多個(gè)閉合單獨(dú)回路相對(duì)應(yīng)。