[發(fā)明專利]用來蝕刻玻璃薄片的裝置和利用該裝置制成的玻璃板材

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910001497.8
• 申請日: 2009-01-09
• 公開（公告）號: CN101481217A
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發(fā)明（設計）人: 樸亨根;高星宇
• 申請（專利權）人: 伊可尼股份有限公司;樸亨根;高星宇
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 張靜潔;王敏杰

技術領域

本發(fā)明涉及用來蝕刻玻璃基板來減少玻璃基板厚度的裝置，尤其涉及一個蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置在至少一個玻璃基板下設置有一個固定裝置，該固定裝置用來可分離的以預先與地面有一定的傾斜度固定和支撐玻璃基板；該裝置還在玻璃基板上面設置有一個噴涂裝置，該噴涂裝置用來噴涂蝕刻劑到玻璃基板上，以此來減少玻璃基板的厚度，且玻璃板材也以上述方式制造。?

背景技術

回應當前信息時代的發(fā)展，光電元件和設備顯著發(fā)展且廣泛應用。尤其，用在電視或個人電腦上的用來顯示圖像的顯示設備更是受到了加速的研究。因此，更多的研究還應用于用于基板的玻璃板材和玻璃板材的制作方法，該玻璃板材是顯示設備的關鍵部件。?

制作顯示燈和薄顯示面板的傳統(tǒng)方法通常包括機械拋光方法和化學濕式蝕刻方法。雖然在顯示設備的早期發(fā)展階段廣泛應用機械拋光方法，但是化學濕式蝕刻方法具有極好的生產(chǎn)率，最近開始用于需要超細產(chǎn)品的場合。?

對于濕式蝕刻方法，浸涂法首先應用于用于薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)的細長面板的制造。盡管噴涂方法和射流方法比浸涂法更先進，他們的原理是相似的。噴涂方法和射流方法與浸涂法在應用蝕刻劑、散播反應生成物和移除反應生成物的宏觀原理上是不同的。?

簡要描述一下化學濕式蝕刻方法，它利用的是在蝕刻劑主要成分例如氫離子(H⁺)、氟化氫(HF)、二氟化氫(HF₂^-)和玻璃基板的主要成分例如二氧化硅(SiO₂)當攪拌蝕刻劑后的化學反應。反應依據(jù)下列公式進行：?

SiO₂+4HF→SiF₄+2H₂O?

使用包含HF^-蝕刻劑來蝕刻玻璃基板的制程可被分為以下5個步驟，該步驟決定了蝕刻的質(zhì)量。該5個步驟是：(1)蝕刻劑散播到臨近玻璃基板的擴散層上；(2)蝕刻劑的成分被吸收到玻璃基板的表面上；(3)蝕刻劑的成分和玻璃基板進行化學反應；(4)化學反應后，反應生成物從玻璃基板上分離出來；(5)反應生成物從臨近玻璃基板的擴散層中移除。?

以下是對基于上述化學反應的化學濕式蝕刻方法的浸涂法、噴涂方法和射流方法的描述。浸涂法是在一個蝕刻槽中包含蝕刻劑，將玻璃基板沉浸在蝕刻劑中且在蝕刻槽底部產(chǎn)生氣泡，因此氣泡在玻璃基板的表面產(chǎn)生連續(xù)不斷的蝕刻劑。此處，氣泡和蝕刻劑或者反應生成物的運動狀態(tài)相關，例如蝕刻劑的散播，反應生成物的分離，和反應生成物從擴散層的移除。由于氣泡增加了蝕刻劑和反應生成物的運動能力，因此加速了蝕刻劑和反應生成物的接觸、散播、和分離。?

換句話說，氣泡用來快速地為玻璃基板應用新的蝕刻劑，以及從玻璃基板表面移除蝕刻劑。由于蝕刻劑充滿了蝕刻槽，一些玻璃基板可以適合卡座的狀態(tài)同時放置入，因此基于以上原理的浸涂法具有高生產(chǎn)率的優(yōu)點。然而，作為浸涂法的缺點，剩余在蝕刻槽內(nèi)部的反應生成物粘在玻璃基板的表面，因此造成了表面質(zhì)量的副作用。結果使通過增加蝕刻量來減少玻璃基板厚度變得困難，因此，大量的蝕刻劑用于蝕刻玻璃基板。?

噴涂方法是用來彌補浸涂法的缺陷。噴涂方法在質(zhì)量上比浸涂法高級的多。如圖1所示，噴涂方法包括從噴嘴11向玻璃基板13上噴涂蝕刻劑12。基于蝕刻原理的蝕刻步驟和以上描述的浸涂法的步驟一樣。然而，噴涂方法使用一個作為噴霧器的工具，通過垂直注射蝕刻劑到玻璃基板上，該噴霧器產(chǎn)生大量的動力能量，且能更快速和均勻的提供新的蝕刻劑和移除反應生成物。另外，和浸涂法相比，噴涂方法在同樣溫度下能獲得更高的質(zhì)量和更高的蝕刻率。?

噴涂方法可以使用一個具有較大容量的槽，因此反應生成物可以方便的移除且蝕刻劑可以不斷地流過該槽和蝕刻空間。另外，噴涂方法可以有利地地保持極好的表面質(zhì)量且由于蝕刻劑可以在處理反生成物時不斷使用，還能減少使用的蝕刻劑的數(shù)量。然而，由于噴涂方法只能一個接一個的加工玻璃基板，噴涂方法的生產(chǎn)效率比較低。?

射流方法被設計來克服以上提到的問題。射流方法可以被視為浸涂法和噴涂方法的結合。射流法包括將蝕刻槽填滿蝕刻劑，將玻璃基板浸沒在蝕刻?劑中，在一面產(chǎn)生蝕刻劑的強大的流量，其作用如浸涂法中的氣泡一樣。另外，新的蝕刻劑不斷應用于蝕刻槽，流過蝕刻槽的蝕刻劑的一部分被收集和重新利用。即使射流法能夠增加生產(chǎn)率，但是它有一個缺點就是初始成本很高。?

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明用來解決現(xiàn)有技術的上述問題。?