[發明專利]圖像形成裝置和后處理裝置

有效

• 申請號: 200910001169.8
• 申請日: 2009-01-23
• 公開（公告）號: CN101493660A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發明（設計）人: 宮崎昌彥
• 申請（專利權）人: 京瓷美達株式會社
• 主分類號: G03G15/00
• 分類號: G03G15/00
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 李雪春;武玉琴

1.一種圖像形成裝置，其特征在于包括：

圖像形成部，在記錄介質上形成圖像；

后處理盤，臨時放置所述記錄介質，以對形成有所述圖像的記錄介質實施后處理；

輸送部，把所述記錄介質輸送到所述后處理盤；

寬度貼近部，使放置在所述后處理盤上的記錄介質，在與所述輸送部的輸送方向垂直的方向上移動；

后處理部，對記錄介質實施所述后處理；

開口部，設置在所述后處理部的后處理位置上，并允許所述記錄介質移動，具有沿所述記錄介質的所述輸送方向的第一開口面和沿所述寬度貼近部使所述記錄介質移動的移動方向的第二開口面；以及

閘門，設置在所述第二開口面附近，封閉該第二開口面；其中，

所述閘門允許由所述寬度貼近部移動的所述記錄介質進入到第一開口面和第二開口面所包圍的區域內，并在所述記錄介質從該區域內離開的情況下，封閉所述第二開口面。

2.根據權利要求1所述的圖像形成裝置，其特征在于，

所述閘門的一端，在所述寬度貼近部為了使所述記錄介質配置在所述后處理部的位置上而移動時的移動方向的上游一側，以轉動自如的狀態支撐在軸上，所述閘門的另一端向所述移動方向下游一側下垂，封閉所述第二開口面，

所述記錄介質當通過所述寬度貼近部在所述開口部內移動，進入所述區域內的情況下，與所述閘門抵接，使得所述閘門的另一端以所述支撐在軸上的一端為支點進行轉動。

3.根據權利要求2所述的圖像形成裝置，其特征在于，

所述開口部沿與所述輸送方向垂直的方向延伸，

所述寬度貼近部，在所述后處理盤上，使所述記錄介質在從所述輸送部接收記錄介質的接收位置與由所述后處理部對記錄介質的后處理對象部分實施后處理的后處理位置之間進行移動，

所述第二開口面，在所述記錄介質位于所述移動方向上的所述接收位置的情況下，向外部露出，

所述閘門在所述記錄介質處于所述接收位置的狀態時，封閉所述露出的第二開口面。

4.根據權利要求3所述的圖像形成裝置，其特征在于，

當所述記錄介質通過所述寬度貼近部在所述開口部內移動，與所述閘門抵接，使得該閘門以所述支撐在軸上的一端為支點進行了所述轉動的情況下，由該閘門和處于與該閘門抵接狀態的記錄介質封閉所述露出的第二開口面。

5.根據權利要求2所述的圖像形成裝置，其特征在于還包括：

識別部，用于識別所述記錄介質是否被放置在所述后處理盤上；

檢測部，用于檢測所述閘門的另一端是否轉動到預定的位置；其中，

在所述識別部識別出所述記錄介質沒有被放置在所述后處理盤上，并且所述檢測部檢測到所述閘門的另一端轉動到所述預定位置的情況下，所述后處理部不進行所述后處理。

6.根據權利要求2所述的圖像形成裝置，其特征在于，

所述閘門在與所述記錄介質的抵接面上，具有在所述一端形成的第一傾斜部和在所述另一端形成的第二傾斜部，在所述閘門的所述另一端處于下垂的狀態下，所述第一傾斜部相對于所述記錄介質放置面的傾斜度比所述第二傾斜部相對于所述記錄介質放置面的傾斜度更大。

7.一種后處理裝置，對形成有圖像的記錄介質實施后處理，其特征在于包括：

后處理盤，臨時放置所述記錄介質；

后處理部，對記錄介質實施所述后處理；

寬度貼近部，在所述后處理盤上，使所述記錄介質沿與所述記錄介質被輸送來的輸送方向垂直的方向，在從輸送部接收記錄介質的接收位置和所述后處理部實施后處理的后處理位置之間進行移動；

開口部，設置在所述后處理部的后處理位置上，允許所述記錄介質移動，具有沿所述記錄介質的所述輸送方向的第一開口面和沿所述寬度貼近部使所述記錄介質移動的移動方向的第二開口面；以及

閘門，設置在所述第二開口面附近，封閉該第二開口面；其中，

所述閘門允許由所述寬度貼近部移動的所述記錄介質進入到第一開口面和第二開口面所包圍的區域內，并在所述記錄介質從該區域內離開的情況下，封閉所述第二開口面。