[發明專利]晶圓粗拋光液無效
| 申請號： | 200910001033.7 | 申請日： | 2009-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN101781525A | 公開（公告）日： | 2010-07-21 |
| 發明（設計）人： | 閔學勇;邢振林 | 申請（專利權）人： | 昆山市百益電子科技材料有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02;H01L21/00;H01L21/304;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215300 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 晶圓粗 拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種晶圓粗拋光液，其特征在于拋光液的組分及重量百份比如下：二氧化硅磨料2-50；PH調節劑0.2-10；螯合劑0.1-5；表面活性劑0.01-5；余量為去離子水。
2.根據權利要求1所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，PH調節劑為堿性有機胺，如三乙胺和二異丁基胺中至少一種。
3.根據權利要求1所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，螯合劑為乙二胺四乙酸和檸檬酸及其鹽中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，表面活性劑為醇醚類非離子類表面活性劑，如OP-10、TX-10中至少一種。
5.根據權利要求1所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，所述拋光液的PH值范圍為11.2-12.2，粒徑范圍為40-60nm。
6.根據權利要求1所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，所述拋光液的Na離子含量范圍＜0.07％。
7.根據權利要求5所述的一種晶圓粗拋光液，其特征在于，所述拋光液對于硅片拋光速率為1um/min。
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