[發(fā)明專利]檢查系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910000979.1 | 申請日: | 2009-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN101499434A | 公開(公告)日: | 2009-08-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 高橋武博 | 申請(專利權)人: | 奧林巴斯株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66;H01L21/268;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢查 系統(tǒng) | ||
1.一種檢查系統(tǒng),該檢查系統(tǒng)具有缺陷檢查裝置和復查裝置,其特 征在于,所述缺陷檢查裝置對形成在基板上的缺陷進行識別,并取得缺 陷信息,所述缺陷信息包含表示所述缺陷的位置坐標的缺陷位置坐標和 表示所述缺陷的尺寸的缺陷尺寸,
所述復查裝置根據(jù)所述缺陷檢查裝置所取得的所述缺陷位置坐標, 使攝像范圍相對移動,利用顯微鏡對所述基板進行檢查,
所述復查裝置具有坐標計算部,該坐標計算部根據(jù)所述缺陷信息和 用于構成所述攝像范圍的攝像范圍信息,使多個缺陷位置坐標歸納成進 入同一攝像范圍內(nèi)的一個坐標,來計算使所述相對移動的次數(shù)減少的坐 標。
2.根據(jù)權利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于,
所述坐標計算部具有同一視野內(nèi)缺陷提取部,該同一視野內(nèi)缺陷提 取部用于求出多個缺陷同時進入所述顯微鏡的同一攝像范圍內(nèi)的坐標。
3.根據(jù)權利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于,
所述坐標計算部具有格子坐標設定部,該格子坐標設定部根據(jù)所述 顯微鏡的攝像范圍來求出多個缺陷所進入的格子。
4.根據(jù)權利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于,
所述復查裝置具有缺陷坐標存儲部,該缺陷坐標存儲部存儲從所述 缺陷檢查裝置輸出的缺陷的位置坐標。
5.根據(jù)權利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于,
所述復查裝置是具有空間調(diào)制元件、并且?guī)в行拚δ艿膹筒檠b置, 所述修正功能是以任意形狀一次照射多束激光來進行修正的功能。
6.根據(jù)權利要求1所述的檢查系統(tǒng),其特征在于,
所述復查裝置具有不需照射激光部分判定部,該不需照射激光部分 判定部提取出需要利用激光進行修正的缺陷部分,并排除不需要進行修 正的部分。
7.一種檢查系統(tǒng),該檢查系統(tǒng)具有缺陷檢查裝置、復查裝置和坐標 計算部,其特征在于,所述缺陷檢查裝置對形成在基板上的缺陷進行識 別,并取得缺陷信息,所述缺陷信息包含表示所述缺陷的位置坐標的缺 陷位置坐標和表示所述缺陷的尺寸的缺陷尺寸,
所述復查裝置根據(jù)所述缺陷檢查裝置所取得的所述缺陷位置坐標, 使攝像范圍相對移動,利用顯微鏡對所述基板進行檢查,
所述坐標計算部根據(jù)所述缺陷信息和用于構成所述攝像范圍的攝像 范圍信息,使多個缺陷位置坐標歸納成進入同一攝像范圍內(nèi)的一個坐標, 來計算使所述相對移動的次數(shù)減少的坐標。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于奧林巴斯株式會社,未經(jīng)奧林巴斯株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910000979.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:相機套
- 下一篇:在金屬成型過程中供應惰性氣體的控制方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





