[發(fā)明專利]電光裝置以及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910000710.3
• 申請(qǐng)日: 2009-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN101483944A
• 公開（公告）日: 2009-07-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 窪田岳彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H05B33/02
• 分類號(hào): H05B33/02;H05B33/08;H05B33/12
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 雒運(yùn)樸;李 偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種利用了電光元件的電光裝置和電子設(shè)備。

背景技術(shù)

近年來，提出了各種電光裝置，所述電光裝置利用有機(jī)發(fā)光二極管 (Organic?Light?Emitting?Diode，以下稱為“OLED”)元件等的電光元 件，所述有機(jī)發(fā)光二極管被稱為有機(jī)EL(ElectroLuminescent：電致發(fā) 光)元件或發(fā)光聚合物元件等。在這種電光裝置中，公知有為了防止水 分等浸入到設(shè)置在基板上設(shè)置的電光元件中以多層薄膜進(jìn)行密封的技 術(shù)。例如，專利文獻(xiàn)1中公開層疊平坦化層、緩沖層和阻擋層來密封基 板上的功能元件的結(jié)構(gòu)，其中，平坦化層用于使設(shè)置在基板上的電光元 件和薄膜晶體管等功能元件平坦化。

還有，在基板上設(shè)置有向驅(qū)動(dòng)電光元件的驅(qū)動(dòng)用電路供給電位的電 位供給線。例如如專利文獻(xiàn)2所公開的，該電位供給線以橫穿驅(qū)動(dòng)用電 路的方式配置。即，構(gòu)成驅(qū)動(dòng)用電路的多個(gè)薄膜晶體管越過在基板上延 伸的電位供給線而配置。由此，進(jìn)行如上所述的薄膜密封時(shí)，基板上的 電位供給線也被平坦化層覆蓋。還有，平坦化層被緩沖層覆蓋，緩沖層 進(jìn)入到平坦化層的側(cè)面。在基板上被緩沖層覆蓋的區(qū)域外側(cè)設(shè)置密封部 件，配置有功能元件的基板經(jīng)密封部件以與密封用第二基板對(duì)置的方式 接合。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2005-251721號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開平8-114817號(hào)公報(bào)

電光裝置的基板上除了配置有電光元件的區(qū)域以外的邊框部分，優(yōu) 選使之盡可能變窄。但是，存在以下問題，即，在進(jìn)行上述薄膜密封時(shí)， 由于不僅基板上的功能元件就連電位供給線也被平坦化層所覆蓋，所以 與電位供給線的寬度對(duì)應(yīng)地邊框部分變大，存在難以實(shí)現(xiàn)邊框部分的變 窄的問題。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于這種情況，本發(fā)明的目的在于解決實(shí)現(xiàn)進(jìn)行薄膜密封的電光裝 置的邊框的窄化的問題。

為了解決上述問題，本發(fā)明的電光裝置，在基板上設(shè)置有多條掃描 線、多條數(shù)據(jù)線、多個(gè)像素、驅(qū)動(dòng)電路(例如圖1所示的掃描線驅(qū)動(dòng)電 路40、數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路50)和電位供給線，其中，所述多個(gè)像素與多 條掃描線和多條數(shù)據(jù)線的各個(gè)交叉處相對(duì)應(yīng)地配置，所述驅(qū)動(dòng)電路向多 條掃描線或者多條數(shù)據(jù)線的至少一方供給信號(hào)，所述電位供給線向驅(qū)動(dòng) 電路供給電位，多個(gè)像素的每一個(gè)具有電光元件和驅(qū)動(dòng)晶體管，其中， 所述電光元件包括，像素電極(例如圖2所示的像素電極210)、從像素 電極的方向觀察配置在基板的相反側(cè)的對(duì)置電極(例如圖2所示的對(duì)置 電極230)、介于像素電極和對(duì)置電極之間的發(fā)光層(例如圖2所示的發(fā) 光層220)，所述驅(qū)動(dòng)晶體管與像素電極電連接，所述電光裝置的特征在 于，具有：絕緣膜(例如圖2所示的第一平坦化層F1、圖8所示的第 一平坦化層F1以及第二絕緣層Fa2)，其設(shè)置在驅(qū)動(dòng)晶體管和對(duì)置電極 之間；平坦化層(例如圖2所示的第二平坦化層F2)，其覆蓋對(duì)置電極， 電位供給線在基板上的區(qū)域中設(shè)置有絕緣膜的第一區(qū)域(例如圖1至圖 3所述的區(qū)域Z)外側(cè)的第二區(qū)域(例如圖2和圖3所示的區(qū)域Y)內(nèi) 沿基板的周邊框延伸，平坦化層覆蓋絕緣膜并在第二區(qū)域內(nèi)與電位供給 線的至少一部分重疊。

根據(jù)該方式，電位供給線在基板上的區(qū)域中設(shè)置有絕緣膜的第一區(qū) 域外側(cè)的第二區(qū)域內(nèi)沿基板的周邊框延伸，其至少一部分與平坦化層重 疊，由此能夠?qū)崿F(xiàn)邊框部分的變窄。

還有，本發(fā)明的電光裝置，也能夠?yàn)橐韵路绞剑矗诨迳暇哂? 多個(gè)電光元件、驅(qū)動(dòng)電路和電位供給線(例如圖1至圖3所示的高位側(cè) 電位供給線VHa或者低位側(cè)電位供給線VSa)，其中，所示驅(qū)動(dòng)電路由 多個(gè)薄膜晶體管構(gòu)成驅(qū)動(dòng)多個(gè)電光元件，所述電位供給線向驅(qū)動(dòng)電路供 給電位，所述電光裝置的特征在于，具有：覆蓋多個(gè)薄膜晶體管(例如 圖2以及圖3所示的晶體管Tr)的第一平坦化層(例如圖2以及圖3 所示的第一平坦化層F1)；覆蓋第一平坦化層的第二平坦化層(例如圖 2以及圖3所示的第二平坦化層F2)，電位供給線在設(shè)置有第一平坦化 層的第一區(qū)域(例如圖1至圖3所示的區(qū)域Z)外側(cè)的第二區(qū)域(例如 圖2以及圖3所示的區(qū)域Y)內(nèi)沿基板的周邊框(例如圖1至圖3所示 的周邊框12)延伸，第二平坦化層覆蓋第一平坦化層的側(cè)面(例如圖2 以及圖3所示的側(cè)面S1)并在第二區(qū)域與電位供給線的至少一部分重 疊。