[發(fā)明專利]用于測量適于鍍覆鋼帶的金屬液體的化學(xué)組成的方法和裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880131966.1
• 申請(qǐng)日: 2008-11-14
• 公開（公告）號(hào): CN102216491A
• 公開（公告）日: 2011-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·米紹;B·格勒尼耶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門子VAI金屬科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C20/00
• 分類號(hào): C23C20/00;G01N21/71
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張群峰

1.?一種用于測量適于鍍覆鋼帶的金屬液體（1）的化學(xué)組成的方法，其中，金屬液體以連續(xù)的方式在第一空腔（2）中形成，其組成的測量在所述液體的直接測量表面（6）上進(jìn)行，

所述方法的特征在于，到達(dá)測量表面的金屬液體試樣經(jīng)歷被選擇為使所述測量表面與主要基于鐵的雜質(zhì)隔離的溫度（7）。

2.?一種用于測量適于鍍覆鋼帶的金屬液體（1）的化學(xué)組成的裝置，包括：

-第一空腔（2），其包括金屬液體；

-用于在所述液體的直接測量表面（6）上測量金屬液體的組成的測量件（9），

所述裝置的特征在于，溫度調(diào)節(jié)器（7）布置在測量表面的附近，以將到達(dá)所述測量表面的金屬液體試樣與主要基于鐵的雜質(zhì)隔離。

3.?如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，直接測量表面位于第一空腔的金屬液體的流動(dòng)回路（3）上，所述回路具有流動(dòng)入口，所述流動(dòng)入口理想地布置在空腔的某一高度上以使得大部分的雜質(zhì)例如表面或底部廢渣保持遠(yuǎn)離所述回路。

4.?如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，第一空腔是鍍覆坩堝，而流動(dòng)回路（3）包括布置于所述坩堝外部的環(huán)路。

5.?如權(quán)利要求2或3所述的裝置，其中，流動(dòng)回路（3）包括在第一空腔內(nèi)或至少鄰接第一空腔的金屬液體流動(dòng)通道，所述通道理想地設(shè)置為用于通過感應(yīng)來加熱金屬液體浴。

6.?如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，第一空腔是至少一個(gè)用于熔融金屬合金以制備金屬液體的坩堝，所述熔融坩堝與例如為鍍覆坩堝的第二空腔連接，而流動(dòng)回路（3）與在第一和第二空腔之間的金屬液體管道連接。

7.?如權(quán)利要求4、5或6所述的裝置，其中，流動(dòng)回路（3）包括呈豎直上升的管（8、31a）的形式的旁路，所述管的高度（H）至少比在第一空腔中的液體液位更高，并且直接測量表面由在所述管中的液體液位所限定。

8.?如權(quán)利要求7所述的裝置，其中，豎直上升的管（31a）與通向流動(dòng)回路（3）的豎直下降的管（31b）連接。

9.?如權(quán)利要求8所述的裝置，其中，管（31a、31b）中的每個(gè)都包括閥（311、312），以暫時(shí)地阻隔在旁路中的液體。

10.?如權(quán)利要求9所述的裝置，其中，所述閥（311、312）中的至少一個(gè)進(jìn)行限定的阻隔延時(shí)，以保證足夠?qū)㈦s質(zhì)隔離在測量表面以外，并在這之后進(jìn)行測量階段。

11.?如權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，豎直下降的管（31b）包括通過溢流實(shí)現(xiàn)的液體入口。

12.?如權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，溫度調(diào)節(jié)器布置于在測量表面下面、理想地在感應(yīng)加熱裝置下面的至少一部分上，其中所述感應(yīng)加熱裝置例如為只產(chǎn)生液體的適度混合的單相交流電系統(tǒng)，或產(chǎn)生液體的顯著混合的多相交流電系統(tǒng)。

13.?如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，在第一空腔中，通過流動(dòng)回路（3）來抽吸金屬液體之前有擋板裝置，所述擋板裝置適于阻止至少浮在從第一空腔中提取的液體浴表面上的化合物。

14.?如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，惰性氣體（13）的流動(dòng)回路應(yīng)用在金屬液體的直接測量表面（6）上，以保護(hù)直接測量表面免受氧化反應(yīng)，并且它的氣體流動(dòng)流量保證在包括直接測量表面（6）的測量空腔（5）和測量件（9）之間進(jìn)行密封吹掃。

15.?如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，由對(duì)于激光消融光束（11a）可透過并對(duì)于等離子體輻射（11b）可透過的材料制成的窗（10）布置在測量件（9）和直接測量表面（6）之間，以構(gòu)成密封的測量空腔（5）。

16.?如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，測量件（9）是通過在直接測量表面（6）上的激光消融來進(jìn)行光譜分析的裝置。

17.?如上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，直接測量表面（6）位于由不與金屬液體反應(yīng)的材料，例如奧氏體不銹鋼、陶瓷或鍍覆有陶瓷的金屬，制成的測量空腔（5）中。

18.?如權(quán)利要求3至17中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，流動(dòng)回流（3）包括至少在其入口處提取的泵，所述泵是電磁類型的、機(jī)械類型的，例如離心類型，或氣動(dòng)類型的，借助于例如文丘里效應(yīng)泵的啟動(dòng)。