[發明專利]噴砂顆粒

有效

• 申請號: 200880122000.1
• 申請日: 2008-12-16
• 公開（公告）號: CN101970176A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: A-L·博多內
• 申請（專利權）人: 法商圣高拜歐洲實驗及研究中心
• 主分類號: B24C1/10
• 分類號: B24C1/10;B24C11/00
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 楊生平;鐘錦舜

1.由陶瓷材料構成的噴砂顆粒，具有高于4.0但低于5.0的表觀相對密度，并包含以根據氧化物的重量百分數計超過5％的氧化硅。

2.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的表觀相對密度高于4.3。

3.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的表觀相對密度高于4.5。

4.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒的表觀相對密度低于4.9。

5.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒呈珠粒形式。

6.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒包含超過10％的氧化硅。

7.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒通過熔合獲得。

8.根據權利要求1-6中任一項所述的顆粒，所述顆粒通過燒結獲得。

9.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒的硬度高于700HV_0.5。

10.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的硬度高于800HV_0.5。

11.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒的硬度在900HV_0.5到1100HV_0.5范圍內。

12.根據任一前述權利要求所述的顆粒，所述顆粒的粒徑小于2mm。

13.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的粒徑小于1mm。

14.根據任一前述權利要求所述的顆粒，以根據氧化物的重量百分數計，包含超過30％但低于90％的氧化鋯(ZrO₂)。

15.根據任一前述權利要求所述的顆粒，以根據氧化物的重量百分數計，包含超過5％但低于60％的氧化硅。

16.根據任一前述權利要求所述的顆粒，以根據氧化物的重量百分數計，包含低于20％的氧化硅。

17.根據任一前述權利要求所述的顆粒，以根據氧化物的重量百分數計，包含超過1％但低于10％的氧化鋁(Al₂O₃)。

18.噴砂顆粒，所述顆粒的表觀相對密度高于4.0但低于5.0，并包含以根據氧化物的重量百分數計低于10％的氧化鋁。

19.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的表觀相對密度高于4.3。

20.根據前一權利要求所述的顆粒，所述顆粒的表觀相對密度高于4.5。

21.一種噴砂方法，包括向部件的表面上投射顆粒的操作，其中，所述顆粒為根據任一前述權利要求所述的顆粒。

22.根據前一權利要求所述的方法，其中，所述顆粒以超過40m/s的速度被投射。

23.根據前一權利要求所述的方法，其中，所述顆粒以超過55m/s的速度被投射。

24.根據權利要求21-23中任一項所述的方法，包括投射非所述顆粒的介質的步驟。

25.根據權利要求21-24中任一項所述的方法，不包括投射金屬珠粒的步驟。

26.根據權利要求21-23中的任一項所述的方法，不包括投射非所述顆粒的介質的步驟。

27.根據權利要求21-26中的任一項所述的方法，其中，被處理的表面為金屬表面。

28.根據權利要求21-27中的任一項所述的方法，其中，被處理的表面為汽車部件的表面。

29.一種噴砂方法，包括向部件表面上投射顆粒的操作，其中，所述顆粒的表觀相對密度高于4.0但低于4.9，其中，所述顆粒以超過40m/s的速度被投射。

30.一種噴砂方法，包括向部件表面上投射顆粒的操作，其中，所述顆粒的表觀相對密度高于4.0但低于5.0，所述方法包括投射非所述顆粒的介質的步驟。

31.根據前一權利要求所述的方法，不包括投射金屬珠粒的步驟。