[發(fā)明專利]作為GSK-3抑制劑的螺環(huán)狀氨基喹諾酮無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880115090.1 | 申請日: | 2008-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN101855229A | 公開(公告)日: | 2010-10-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 歐娜·科茨歐瓦;福田恭通;河野靖;李蓓;岡田恭子;中村凌子;野村正寬;瀨戶茂樹;凱特琳·扎德寧斯;湯本和宏 | 申請(專利權(quán))人: | 埃迪威克斯生物科學(xué)公司;杏林制藥株式會社 |
| 主分類號: | C07D498/10 | 分類號: | C07D498/10;C07D498/20;A61K31/4747;A61P25/00 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 武晶晶;鄭霞 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 作為 gsk 抑制劑 環(huán)狀 氨基 喹諾酮 | ||
1.式(I)的化合物:
或其藥學(xué)上可接受的衍生物,其中
R2為氫或低級烷基;
R3為氫、CN、C(O)R3a、C(NH)NHOH或5-四唑基;
R3a為OH、烷氧基或NHR3b;
R3b為氫、NH2、OH或低級烷基;
R5a和R5b各自獨立地為氫、低級烷基或芳烷基,其任選地被1至3個各自獨立地選自Q0基團的取代基取代;其中Q0為鹵素、氰基、硝基、NH2、烷基或烷氧基;
R6為鹵素;
在每種情況下,Ra和X3獨立地選自如下的(i)或(ii):
(i)Ra為氫或低級烷基;且
X3為取代或未取代的C1-C3亞烴基、取代或未取代的3-6元環(huán)亞烴基或取代或未取代的3-6元雜亞環(huán)基,其中該取代基當(dāng)存在時選自1至4個Q2基團;或者
(ii)Ra和X3與它們鍵合的氮原子一起可形成5至7元飽和或不飽和的環(huán),該環(huán)任選地含有一個或多個O或S原子或者一個或多個額外的N原子;
Rb為-(CHR7a)nR7、-NR7bR7、-OR7、-S(O)r-R7、-NR7bCOY1R7或-Y2CONR7bR7;
Y1為鍵、O或NR7b;
Y2為鍵或O;
n為0或1;
r為0至2的整數(shù);
R7為烷基、芳基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、雜芳基、稠合雜環(huán)基芳基或稠合芳基雜環(huán)基,其中R7任選地被1至5個取代基所取代,每個取代基獨立地選自Q1基團;
R7a為氫、烷基、芳基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、雜芳基、稠合雜環(huán)基芳基或稠合芳基雜環(huán)基,其中R7a任選地被1至5個取代基取代,每個取代基獨立地選自Q1基團;
R7b為氫、烷基、芳基、雜芳基、芳烷基、雜芳烷基或稠合雜環(huán)基芳基,其中R7b任選地被1至5個取代基取代,每個取代基獨立地選自Q1基團;
其中Q1為鹵素、羥基、氧、硫代、氰基、硝基、疊氮基、巰基、甲?;?、羥基羰基、羥基羰基烷基、烷基、鹵代烷基、烯基、炔基、環(huán)烷基、雜環(huán)基、芳基、雜芳基、芳烷基、雜芳烷基、烷氧基、鹵代烷氧基、環(huán)烷氧基、雜環(huán)氧基、芳氧基、雜芳氧基、芳烷氧基、雜芳烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、雜芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳烷氧基羰基、未取代的或取代的氨基羰基、烷基羰氧基、芳基羰氧基、芳烷基羰氧基、烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、芳烷氧基羰氧基、未取代的或取代的氨基羰氧基、未取代的或取代的氨基、烷基硫代、環(huán)烷基硫代、芳基硫代、雜芳基硫代、芳烷基硫代、雜芳烷基硫代、烷基亞硫?;?、環(huán)烷基亞硫?;?、芳基亞硫?;?、雜芳基亞硫酰基、芳烷基亞硫?;?、雜芳烷基亞硫酰基、烷基磺酰基、環(huán)烷基磺酰基、芳基磺?;㈦s芳基磺?;⒎纪榛酋;?、雜芳烷基磺?;⑼檠趸酋;?、芳氧基磺?;?、未取代的或取代的氨基磺酰基或羥基磺?;?;
X1為O或NR8;
R8為氫或低級烷基;
X2為CH2、O、NR1或S;
R1為氫或低級烷基;
A為鍵或取代或未取代的C1-C2亞烴基,其中該取代基當(dāng)存在時選自1至4個Q2基團;
其中Q2為烷基或鹵代烷基;
p為0或1;且
q為0至2的整數(shù)。
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