[發(fā)明專利]水晶振子片及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880106799.5
• 申請(qǐng)日: 2008-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN101803188A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 加藤晶子
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西鐵城控股株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H03H9/215
• 分類號(hào): H03H9/215;H01L41/09;H01L41/18;H01L41/22;H03H3/02;H03H9/19
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 何騰云

1.一種水晶振子片的制造方法，所述水晶振子片設(shè)有振動(dòng)腿，所 述振動(dòng)腿具有表面、背面、第一側(cè)面和第二側(cè)面，其特征在于，具有：

在所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面的雙方，以從所述表面向所述背 面形成斜面的方式殘留固定不變的殘?jiān)⑼ㄟ^(guò)蝕刻形成所述振動(dòng)腿的 第一工序，

以使在與所述振動(dòng)腿的縱向正交的截面上力學(xué)地正交并穿過(guò)所述 截面的圖心的兩個(gè)主軸中的一方與所述表面或所述背面平行的方式， 相應(yīng)于與所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面的固定不變的殘?jiān)男螤睿? 所述振動(dòng)腿上通過(guò)蝕刻而形成平衡調(diào)整槽的第二工序。

2.如權(quán)利要求1所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于，從 一個(gè)方向進(jìn)行蝕刻而形成所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面的殘?jiān)?

3.如權(quán)利要求1所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于，以 寬度隨著從所述表面朝向所述背面而變大的方式形成具有所述表面、 和寬度比所述表面寬的背面的振動(dòng)腿。

4.如權(quán)利要求3所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于：

在水晶片的表面形成外形表面用蝕刻掩模，在所述水晶片的背面 形成寬度比所述外形表面用蝕刻掩模寬的外形背面用蝕刻掩模，

在所述外形背面用蝕刻掩模中，當(dāng)從與所述外形表面用蝕刻掩模 的所述第一側(cè)面?zhèn)鹊亩瞬繉?duì)應(yīng)的位置突出的第一突出部的長(zhǎng)度為c、 從與所述外形表面用蝕刻掩模的所述第二側(cè)面?zhèn)鹊亩瞬繉?duì)應(yīng)的位置突 出的第二突出部的長(zhǎng)度為d、所述水晶片的厚度為t、所述第一側(cè)面?zhèn)? 的蝕刻角為α、所述第二側(cè)面?zhèn)鹊奈g刻角為β時(shí)，滿足：

c＞t×tan(α-90°)，

d＞t×tan(β-90°)

的關(guān)系。

5.如權(quán)利要求4所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于：

當(dāng)所述外形表面用蝕刻掩模與所述外形背面用蝕刻掩模相互的位 置偏移程度為±p、所述外形背面用蝕刻掩模的所述第一側(cè)面?zhèn)鹊钠? 量為k1、所述外形背面用蝕刻掩模的所述第二側(cè)面?zhèn)鹊钠昧繛閗2 時(shí)，滿足：

c=t×tan(α-90°)+k1，

d=t×tan(β-90°)+k2，

其中，k1＞p且k2＞p

的關(guān)系。

6.如權(quán)利要求4或5所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于：

在所述第二工序中，在所述表面和所述背面的至少一方形成具有 用來(lái)形成所述平衡調(diào)整槽的槽形成用開口部的槽用蝕刻掩模，

所述槽形成用開口部與所述第一側(cè)面的距離為a、所述槽形成用 開口部與所述第二側(cè)面的距離為b，則滿足：

當(dāng)α＜β時(shí)a＜b，

當(dāng)α＞β時(shí)a＞b

的關(guān)系。

7.如權(quán)利要求6所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于：把 形成所述平衡調(diào)整槽的面作為槽面，把所述平衡調(diào)整槽形成在所述槽 面內(nèi)。

8.如權(quán)利要求6所述的水晶振子片的制造方法，其特征在于：把 形成所述平衡調(diào)整槽的面作為槽面，跨所述槽面和所述第一側(cè)面或所 述第二側(cè)面形成所述平衡調(diào)整槽。