[發(fā)明專利]流體壓力缸

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880106722.8
• 申請(qǐng)日: 2008-08-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101849112A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-09-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西孝典
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: SMC株式會(huì)社
• 主分類號(hào): F15B15/22
• 分類號(hào): F15B15/22
• 代理公司: 上海市華誠(chéng)律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 梅高強(qiáng)

1.一種流體壓力缸，其特征在于，包括：

缸體(12)，該缸體具有限定在其中的缸室(20)；

活塞(18)，該活塞被設(shè)置在所述缸室(20)內(nèi)可以沿軸向方向移位；

蓋構(gòu)件(14、16)，該蓋構(gòu)件被容納在所述缸室(20)內(nèi)，用于閉塞和密封所述缸室(20)；和

阻尼器(40，64)，該阻尼器被設(shè)置在所述蓋構(gòu)件(14，16)上，當(dāng)所述活塞(18)抵靠所述蓋構(gòu)件(14，16)時(shí)，該阻尼器可以吸收沖擊，

所述阻尼器(40，64)是由以下形成：

主體部分(42，66)，該主體部分面向所述活塞(18)；和

保持構(gòu)件(44，68)，該保持構(gòu)件垂直于所述主體部分(42，66)延伸并且與所述蓋構(gòu)件(14，16)的側(cè)表面接合，

其中，所述保持構(gòu)件(44，68)被夾持在所述蓋構(gòu)件(14，16)的側(cè)表面和所述缸體(12)的內(nèi)壁表面之間。

2.如權(quán)利要求1所述的流體壓力缸，其特征在于，

所述保持構(gòu)件(44、68)包括爪部分(50、74)，所述爪部分相對(duì)于所述保持構(gòu)件(44、68)向外突出，并且所述爪部分(50、74)被插入到形成在所述蓋構(gòu)件(14、16)的側(cè)表面上的接合槽(54、78)內(nèi)。

3.如權(quán)利要求2所述的流體壓力缸，其特征在于，所述主體部分(42，66)在它的被所述活塞(18)抵靠的表面上包括凹槽(48，72)。

4.如權(quán)利要求3所述的流體壓力缸，其特征在于，所述保持構(gòu)件(44，68)包括設(shè)置在所述主體部分(42，66)的側(cè)部上的多個(gè)保持構(gòu)件(44，68)。

5.如權(quán)利要求4所述的流體壓力缸，其特征在于，當(dāng)所述蓋構(gòu)件(14，16)相對(duì)于所述缸體(12)安裝時(shí)，所述保持構(gòu)件(44，68)被夾持在所述缸體(12)和所述蓋構(gòu)件(14，16)之間。

6.如權(quán)利要求3所述的流體壓力缸，其特征在于，所述凹槽(48，72)相對(duì)于所述主體部分(42，66)大致形成十字形形狀。

7.如權(quán)利要求1所述的流體壓力缸，其特征在于，所述主體部分(42，66)形成大致矩形的形狀并且在其中心部分包括孔(46，70)。

8.如權(quán)利要求1所述的流體壓力缸，其特征在于，所述主體部分(42，66)被安裝在所述蓋構(gòu)件(14，16)的面對(duì)所述活塞(18)的凹部(52，76)中，并且被設(shè)置為相對(duì)于所述蓋構(gòu)件(14，16)的端表面向外突出。