[發明專利]用于制備微結構化制品的工具

有效

• 申請號: 200880106064.2
• 申請日: 2008-09-02
• 公開（公告）號: CN101795961B
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 莫塞斯·M·大衛
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00;H01L21/027
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 郭國清;樊衛民

1.一種用于制備微結構化制品的方法，該方法包括：

(1)在基底上形成第一微結構化圖形；

(2)復制所述第一微結構化圖形以在撓性材料中制備第二微結構 化圖形；

(3)多次復制所述第二微結構化圖形以在可交聯的材料中形成第 三微結構化圖形，從而在第一載體上制備工具；

(4)通過等離子體處理改進所述第三微結構化圖形的表面能；以 及

(5)在聚合物中復制所述第三微結構化圖形以制備至少一個微結 構化制品。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述等離子體處理包括沉積 含氟薄膜。

3.一種用于制備微結構化制品的方法，包括：

(1)創建仿型模，其中所述仿型模通過在基底上沉積的聚合物中 采用同時多光子光加工法形成第一微結構化圖形而創建；

(2)向所述仿型模涂布撓性材料層，其中所述撓性材料包括含氟 聚合物和有機硅中的至少一種；

(3)移除所述撓性材料層，其中所述撓性材料層形成具有第二微 結構化圖形的壓模，并且其中所述第二微結構化圖形為所述仿型模上 的所述第一微結構化圖形的倒轉圖形；

(4)在至少一個壓模上涂布輻射固化型材料層，并且使所述輻射 固化型材料層接觸載體；

(5)通過所述壓模固化所述輻射固化型材料；

(6)移除所述壓模以在所述載體上形成具有至少一個壓模元件的 工具，其中所述工具上的至少一個壓模元件包括第三微結構化圖形；

(7)通過等離子體處理改進在所述工具上的第三微結構化圖形的 表面能；以及

(8)在聚合物中基本上連續地復制所述第三微結構化圖形以制備 結構化制品。