[發(fā)明專利]用于反應(yīng)器容器的盤管管道系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880106027.1 | 申請日: | 2008-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN101796366A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | F·D·洛馬克斯;C·H·范戴克;E·T·麥卡洛 | 申請(專利權(quán))人: | 空氣液體加工工程公司 |
| 主分類號: | F28F1/14 | 分類號: | F28F1/14;F28D7/02 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038 | 代理人: | 王初 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 反應(yīng)器 容器 管道 系統(tǒng) | ||
1.一種反應(yīng)器容器系統(tǒng),包括:
反應(yīng)器容器,包括與所述反應(yīng)器容器的內(nèi)部流體連通的第一端口、 和與所述反應(yīng)器容器的所述內(nèi)部流體連通地連接的作為出口端口的第 二端口;
基座,它支撐所述反應(yīng)器容器;及
第一盤管,與所述第一端口流體連通地連接,并且繞所述反應(yīng)器 容器的周邊布置,其中,所述第一盤管構(gòu)造成,在所述反應(yīng)器容器處 于非加熱狀態(tài)下時,處于壓縮狀態(tài)的第一狀態(tài)下,并且構(gòu)造成,在所 述反應(yīng)器容器處于相對于非加熱狀態(tài)的加熱狀態(tài)下時,處于較小壓縮 狀態(tài)的第二狀態(tài)下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),還包括第二盤管,該 第二盤管繞所述反應(yīng)器容器的所述周邊延伸,并且與第二端口流體連 通地連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),其中,所述反應(yīng)器容 器沿第一方向從所述基座延伸,并且沿第一方向所測量的在所述第一 端口與所述基座之間的距離大于沿所述第一方向所測量的在所述第二 端口與所述基座之間的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),其中,所述第一端口 和第二端口沿著與所述第一方向垂直的第二方向和第三方向從所述反 應(yīng)器容器延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),其中,所述反應(yīng)器容 器包括在所述反應(yīng)器容器的壁上布置的隔熱材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),其中,所述第一盤管 被隔熱。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)器容器系統(tǒng),還包括在所述第一盤 管與所述反應(yīng)器容器之間布置的間隙,所述間隙除所述第一端口之外 繞所述反應(yīng)器容器的整個周邊延伸。
8.一種操作反應(yīng)器容器系統(tǒng)的方法,包括:
提供反應(yīng)器容器,該反應(yīng)器容器包括與所述反應(yīng)器容器的內(nèi)部流 體連通的第一端口、和與所述反應(yīng)器容器的所述內(nèi)部流體連通地連接 的作為出口端口的第二端口;
提供第一盤管,該第一盤管與所述第一端口流體連通地連接,并 且繞所述反應(yīng)器容器的周邊布置,該第一盤管構(gòu)造成,在所述反應(yīng)器 容器處于第一溫度下時,處于第一壓縮狀態(tài)下,并且構(gòu)造成,在所述 反應(yīng)器容器處于第二溫度下時,處于與第一壓縮狀態(tài)不同的第二壓縮 狀態(tài)下,其中,所述第一壓縮狀態(tài)的壓縮大于所述第二壓縮狀態(tài)的壓 縮;及
使蒸汽流過所述第一盤管,并且進入所述反應(yīng)器容器中。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的操作反應(yīng)器容器系統(tǒng)的方法,還包括:
提供第二盤管,該第二盤管與所述反應(yīng)器容器的第二端口流體連 通;以及
使重整產(chǎn)品從天然氣預(yù)加熱器流動到所述第二盤管內(nèi)側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的操作反應(yīng)器容器系統(tǒng)的方法,還包括 將所述反應(yīng)器容器從第一溫度加熱到比所述第一溫度高的第二溫度。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的操作反應(yīng)器容器系統(tǒng)的方法,其中, 所述反應(yīng)器容器在所述第一溫度下是指該反應(yīng)器容器處于非加熱狀態(tài) 下,并且所述反應(yīng)器容器在所述第二溫度下是指該反應(yīng)器容器處于相 對于非加熱狀態(tài)的加熱狀態(tài)下。
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