[發明專利]包含氧乙烯基的膜

無效

• 申請號: 200880025222.1
• 申請日: 2008-05-26
• 公開（公告）號: CN101754797A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 伊丹雄二郎;加瀬晃
• 申請（專利權）人: 富士膠片制造歐洲有限公司
• 主分類號: B01D71/52
• 分類號: B01D71/52
• 代理公司: 北京市德恒律師事務所 11306
• 代理人: 梁永

1.一種包括連續的基本上非多孔性的層的膜，所述膜可通過聚合包含一種化合物的組合物而獲得，所述化合物包含至少70個氧乙烯基和至少2個可聚合基團。

2.一種包括連續的基本上非多孔性的層的膜，所述膜包含一種化合物的聚合產物，所述化合物包含至少70個-(-CH2-CH2O-)-(氧乙烯)基團和至少2個可聚合基團。

3.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，每一個所述可聚合基團包含乙烯基不飽和基團。

4.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述可聚合基團選自丙烯酸酯基團、甲基丙烯酸酯基團、丙烯酰胺基團、乙烯基醚基團、乙烯基酯基團、乙烯基酰胺基團、烯丙基醚基團、烯丙基酯基團、烯丙基胺基團、烯丙基酰胺基團、苯乙烯基團以及它們的組合。

5.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述可聚合基團的至少一個是丙烯酸酯基團或甲基丙烯酸酯基團。

6.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述可聚合基團中至少兩個是丙烯酸酯基團或甲基丙烯酸酯基團。

7.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述化合物占所述待聚合的組合物的3-80重量％，優選5-60重量％。

8.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述氧乙烯基是由至少一個非氧乙烯基阻斷的聚環氧乙烷鏈。

9.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述連續的基本上非多孔性的層包含至少60重量％的氧乙烯基。

10.根據前述任一項權利要求所述的膜，其中，所述膜在20℃的純水滲透性低于6.10-8m3/m2·s·kPa。

11.根據前述任一項權利要求所述的膜，結合于一種多孔性支撐物。

12.一種模件，包括至少一個卷芯和至少一種根據前述任一項權利要求所述的膜。

13.一種用于制備根據權利要求1-11中任一項所述的膜的方法，包括以下步驟：

a.提供包含一種化合物的組合物，所述化合物包含至少70個氧乙烯基和至少2個可聚合基團；

b.將所述組合物涂覆到支撐物上；

c.聚合所述組合物，由此形成基本上非多孔性的聚合物膜；

d.可選地將所述聚合物膜與所述支撐物分離；

e.可選地清洗和/或干燥所述聚合物膜。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述涂覆步驟是連續的并且所述聚合步驟包括將所述涂覆的層暴露于輻射，其中優選地所述暴露的持續時間少于1秒。

15.根據權利要求1-11中任一項所述的膜或根據權利要求12所述的模件在分離極性氣體和/或蒸汽與非極性氣體和/或蒸汽中的用途。