[發明專利]用于優化木質纖維素顆粒物質磨漿的系統和方法無效
| 申請號: | 200880023305.7 | 申請日: | 2008-05-02 |
| 公開(公告)號: | CN101790610A | 公開(公告)日: | 2010-07-28 |
| 發明(設計)人: | 丁峰;I·拉馬;R·加尼翁;C·勒瓊 | 申請(專利權)人: | 魁北克工業研究中心 |
| 主分類號: | D21B1/12 | 分類號: | D21B1/12;D21D99/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 苗征;于輝 |
| 地址: | 加拿大*** | 國省代碼: | 加拿大;CA |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 優化 木質 纖維素 顆粒 物質 系統 方法 | ||
1.一種用于優化木質纖維素顆粒物質的磨漿過程的操作的方法,該磨漿過程使用控制單元(94)以及至少一個磨漿機段(92),所述過程的特征為多個輸入操作參數、由所述單元(94)參照對應的控制目標來控制的至少一個輸出參數、以及至少一個未受控制的輸出參數,所述方法包括以下步驟:
i)提供預測模型(84),該預測模型包括用于所述磨漿過程的模擬模型(86)以及用于所述模擬模型的適配器(88),所述模擬模型基于涉及多種物質特性的關系,這些物質特性表征了有待送入所述過程的木質纖維素物質、所述磨漿過程輸入操作參數、所述受控制的輸出參數以及所述未受控制的輸出參數,以此產生所述未受控制的輸出參數的預測值;
ii)將代表所述物質特性的測量值的數據以及代表所述受控制的以及未受控制的輸出參數的測量值的數據送入該模擬模型適配器(88),以便據此對所述模擬模型的這些關系進行適配;并且
iii)根據所述未受控制的輸出參數的所述預計值上的預定條件并且根據與所述物質性能、所述磨漿過程輸入操作參數以及所述磨漿過程輸出參數中的一個或多個相關的一個或多個預定的過程的約束提供用于產生所述控制目標的最佳值的優化器(214)。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述木質纖維素顆粒物質選自以下組中:木片、木刨花、鋸屑以及處理過的木薄片。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述未受控制的輸出參數選自以下組中:比能耗、能量分割、長纖維、細屑以及碎片成分。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述未受控制的輸出參數是比能耗,所述預定條件涉及所述磨漿的比能耗的最小化狀態。
5.根據權利要求4所述的方法,其中所述輸入操作參數中的至少一項是由所述磨漿過程控制單元參照對應的操作目標米操縱的,并且所述步驟ii)進一步包括將代表所述受操縱的輸入操作參數的測量值的數據送入該模擬模型適配器(88),所述優化器(214)根據所述預定條件以及所述預定過程約束中的一個或多個進一步產生所述操作目標的最佳值。
6.根據權利要求4所述的方法,其中由物質堆料配料級(70)為該物質磨漿過程送料,該配料級配備有物質流量控制單元(67),該控制單元被用于參照針對所述物質特性之一的對應目標來操縱多個物質配料參數,該模擬模型所基于的所述關系進一步涉及所述物質配料參數,所述優化器(214)根據所述預定條件以及所述一個或多個預定的過程約束進一步產生所述物質特性目標的最佳值。
7.根據權利要求4所述的方法,其中所述物質特性包括水分含量。
8.根據權利要求7所述的方法,其中所述物質特性進一步包括至少一個與密度相關的特性。
9.根據權利要求8所述的方法,其中所述物質特性進一步包括至少一個與光反射相關的特性,該特性被表達為至少一個光學參數。
10.根據權利要求9所述的方法,其中所述光學參數是亮度。
11.根據權利要求9所述的方法,其中所述光學參數選自以下組中:色調、飽和度以及暗度指標。
12.根據權利要求9所述的方法,其中所述至少一個與光反射相關的物質特性被表達為多個光學參數,包括色調、飽和度以及亮度。
13.根據權利要求12所述的方法,其中所述多個光學參數進一步包括暗度指標。
14.根據權利要求8所述的方法,其中所述物質特性進一步包括顆粒物質的尺寸。
15.根據權利要求1所述的方法,其中所述模擬模型(86)是一種靜態模型,該靜態模型建造有建模平臺,該平臺選自以下組中:神經網絡、多變量的線性模型、靜態增益矩陣以及模糊邏輯模型。
16.根據權利要求1所述的方法,其中所述受控制的輸出參數選自以下組中:主電動機負荷和木漿游離度。
17.根據權利要求1所述的方法,其中所述磨漿過程輸入操作參數選自以下組中:物質傳輸螺桿速度、稀釋液流速、液體壓力、磨盤間隙以及保持時間延遲。
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