[發明專利]制造具有改良表面性質的植入物的方法及使用該方法制得的植入物有效
| 申請號: | 200880023279.8 | 申請日: | 2008-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN101820829A | 公開(公告)日: | 2010-09-01 |
| 發明(設計)人: | 樸晉佑 | 申請(專利權)人: | 奧斯蒂歐菲爾有限公司 |
| 主分類號: | A61C8/00 | 分類號: | A61C8/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 任永武 |
| 地址: | 韓國大*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 具有 改良 表面 性質 植入 方法 使用 法制 | ||
技術領域
本發明是關于一種制造植入物的方法及一種使用所述方法制得的植入物,尤其是關于一種制造具有改良表面性質的植入物的方法及一種使用所述方法制得的植入物。?
背景技術
植入物一般表示回復失去的人體組織的取代物,以及代表牙醫學中人造牙齒的移植。亦即,植入物是用于人顎骨中半永久性的人工牙齒的牙移植。于一般人工替代物或假牙的情形中,周圍牙齒及骨頭隨著時間推移而損壞。然而,植入物不會破壞周圍牙齒組織,且于牙齒中不會造成衰退(decay),卻具有與天然牙齒相似的功能及外觀,故可半永久性地使用植入物。?
于牙醫學及整形外科領域中,主要用作植入物材料的鈦及鈦合金一般不直接與骨組織聯鎖(interlock),蓋因其具有生物惰性性質。因此,進行例如以具有生物活性性質的材料涂覆于一金屬植入物表面上的表面處理,以賦予植入物生物活性而增加臨床成功率。?
發明內容
[技術問題]?
本發明提供一種制造具有改良表面性質的植入物的方法,所述植入物與骨組織間具有優異的聯鎖性,且加速骨組織的形成。?
本發明亦提供一種使用上述方法制得的具有改良表面性質的植入物。?
[有利效果]?
根據本發明制造的植入物具有微米單位(micro?unit)的微細粗糙度的表面性質,其對于在生物體內與骨組織間的微機械聯鎖是必要的,且所述植入物包括一與加速?骨組織形成的離子鍵結的氧化物薄膜層。因此,達成優異的生物兼容性及有效的骨組織反應,以造成較傳統植入物改良的骨融合,以及提供相當優異的機械物理特性。?
附圖說明
圖1為顯示制造根據本發明的實施態樣的植入物的方法的流程圖。?
圖2及圖3為關于本發明的實驗實施例的樣本的掃描電子顯微鏡(SEM)照片。?
圖4為關于本發明的比較例的樣本的掃描電子顯微鏡照片。?
圖5至圖7為描繪分析關于實驗實施例及比較例的樣本的X-射線繞射結果的圖。?
圖8及圖9為關于將由實驗實施例所制得的樣本沉浸至模擬體液(漢克溶液(Hank’s?solution))中達4周后的樣本的表面的掃描電子顯微鏡照片。?
具體實施方式
根據本發明的一實施態樣,提供一種制造具有改良表面性質的植入物的方法,包括將一包括鈦或鈦合金的基材沉浸至包括由磷酸離子或氟離子及鍶離子組成的群組的至少一者的電解溶液中;以及形成一表面結構具有微米單位的微細粗糙度的氧化物薄膜層,是通過在所述經沉浸的基材的表面上,利用與溫度、壓力及時間條件相關的水熱反應(hydrothermal?reaction),使磷酸離子或氟離子及鍶離子的至少一者與所述基材的鈦或鈦合金反應而形成。?
使用濃度為0.1重量%或更高的磷酸溶液制備包括磷酸離子的電解溶液。此外,使用濃度為0.01重量%或更高的氟化氫溶液制備包括氟離子的電解溶液。使用濃度為0.001摩爾/公升或更高的鍶水溶液制備包括鍶離子的電解溶液。?
再者,電解溶液可包括礦化劑。礦化劑包括氫氧化鈉及氫氧化鉀的至少一者,且礦化劑的濃度為0.1至1摩爾/公升。?
電解溶液可還包括鈣離子及鎂離子的至少一者。此外,舉例言之,使用各別的濃度為0.001摩爾/公升或更高的鈣溶液及鎂溶液制備包括鈣離子及鎂離子的電解溶液。?
此外,于1至20大氣壓的壓力及100至250℃的溫度下進行水熱反應達1小時或更久。?
再者,所述方法可還包括在形成氧化物薄膜層之后,進行熱處理,且所述熱處理是在300至500℃的溫度下進行1小時或更久。?
在沉浸之前,進行拋光基材之后,可進行噴沙(sandblasting)、蝕刻、清潔、干燥及保存的至少一者的預處理。?
再者,進行形成氧化物薄膜層之后,可進行清洗及干燥。?
于此,氧化物薄膜層的表面粗糙度(Ra)值為1至5微米。?
根據本發明的另一實施態樣,提供一種具有改良表面性質的植入物,其包括一包括鈦或鈦合金的基材。亦提供一種作為所述植入物的一部分的氧化物薄膜層,其表面結構具有微米單位的微細粗糙度,且在所述基材的表面上包括由磷酸鈦、鍶鈦(strontium?titanium)及磷酸鍶鈦組成的群組的至少一者。?
此外,氧化物薄膜層包括鈣離子及鎂離子的至少一者。?
再者,氧化物薄膜層的表面粗糙度(Ra)值可為1至5微米。?
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