[發明專利]研磨裝置

無效

• 申請號: 200880023000.6
• 申請日: 2008-05-05
• 公開（公告）號: CN101687299A
• 公開（公告）日: 2010-03-31
• 發明（設計）人: I·科扎克;B·科扎克
• 申請（專利權）人: I·科扎克;B·科扎克
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B9/00;B24B13/00;B24B19/26;B24B21/16;B24B29/02;B24D13/02;B24D15/02;B24D15/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 陳 珊;劉興鵬

1.一種研磨裝置，包括：

a)涂有研磨材料的柔性基底(20)，其中基底(20)具有第一端和相 反的第二端；

b)布置在第一平面中的第一支架(32)，第一支架(32)具有連接到 基底(20)的第一端并支撐第一端的第一邊緣(30)；

c)連接到第一支架(32)并布置在與第一平面平行的第二平面中的 的第二支架(33)，第二支架(33)具有連接到基底(20)的第二 端并支撐第二端的第二邊緣(31)，第二支架(33)相對于第一支 架(32)偏離可調節的間距(S)；

d)橫向貫穿第一支架和第二支架的一個或多個桿(36，152)，其中 所述一個或多個桿中的一個包括軸線，第一邊緣(30)與該軸線 隔開第一距離(h1)，第二邊緣(31)與該軸線隔開第二距離(h2)， 第二距離(h2)能夠被配置成與第一距離(h1)不同；以及

e)用于相對于工件(40)將運動傳送到第一支架和傳送到第二支架 的部件。

2.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中所述基底包含多個條，或者 其中所述基底是穿孔金屬織物、或金屬線狀物、或紙、或布、或橡膠。

3.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中第一支架和第二支架可滑動 地連接到桿，并且可選地其中所述桿構成非平面的陣列。

4.根據權利要求3所述的研磨裝置，其中一個或多個彈簧與桿同軸。

5.根據權利要求3所述的研磨裝置，其中所述基底通過一個或多個彈 簧連接到所述桿。

6.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中第一和第二支架是圓形板， 并且可選地其中第一支架具有第一半徑并包括多個可調節的弓形部分，其 中調節弓形部分的位置調節了第一支架的第一半徑。

7.根據權利要求6所述的研磨裝置，其中所述基底由界定平行于所述 板的平面的一個或多個圓形彈簧支撐。

8.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中所述基底由夾緊部件固定到 所述支架。

9.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中第一支架包括第一板(32a) 和可移動連接到第一板的第二板(32b)，其中第二板連接到所述桿，并且 相對于第二板移動第一板改變第一距離(h1)，并且可選地其中第一板和 第二板均包括螺紋孔(78)并且通過容納在螺紋孔(78)中的螺紋桿(93) 可移動地連接。

10.根據權利要求1所述的研磨裝置，還包含支撐所述基底的基礎膜， 所述基底通過非固化粘合劑連接到所述基礎膜。

11.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中基底通過柄托和軛部件連接 到所述一個或多個桿。

12.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中基底由基本平行于基底的一 個或多個彈簧支撐。

13.根據權利要求1所述的研磨裝置，其中

a)所述桿具有非圓形的橫截面；以及

b)所述支架具有適于貼合地接收所述桿的腔。

14.一種利用權利要求1所述的研磨裝置研磨具有輪廓的工件的方法，該 方法包括：

(a)使工件(40)與柔性研磨基底(20)接觸，柔性研磨基底(20)支 撐在第一支架(32)和隔開的第二支架(33)之間；

(b)使研磨基底(20)符合工件(40)的輪廓；

(c)在研磨基底(20)和工件(40)之間傳遞相對運動，并且可選地在 研磨基底(20)和工件(40)之間傳遞相對平移。

15.根據權利要求14所述的方法，包括使第一支架和第二支架可移動地彼 此連接，從而當使研磨基底(20)符合工件(40)時，允許第一支架和第 二支架之間的間距(S)從第一距離減小到較小的第二距離，并且可選地 使用彈簧(80)將第一支架和第二支架偏壓向第一距離。