[發明專利]用于等離子處理設備的噴頭電極總成

有效

• 申請號: 200880022333.7
• 申請日: 2008-06-05
• 公開（公告）號: CN101720363A
• 公開（公告）日: 2010-06-02
• 發明（設計）人: 托馬斯·R·史蒂文森;安東尼·德拉列拉;紹拉·烏拉爾
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/00
• 代理公司: 上海華暉信康知識產權代理事務所(普通合伙) 31244
• 代理人: 樊英如

1.一種噴頭電極總成，包括：

噴頭電極，適于安裝在真空室內部并由射頻(RF)能量 供電；

連接到噴頭電極的墊板；

通過多個緊固件在該墊板的多個接觸點連接到該墊板的 熱控制板，這些接觸點包括在該熱控制板的下表面上的間隔分 開的多個環形突出部；

該環形突出部之間的多個集氣室中的由陽極氧化處理的 鋁制成的擋環，每個擋環包括水平部分和鄰近這些環形突出部 之一的垂直壁；和

至少一個導熱且導電墊圈，其在這些接觸點將該墊板和 該熱控制板分開。

2.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中該至少一個導熱且 導電墊圈包括大小適于覆蓋這些環形突出部的多個環形墊圈。

3.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中該熱控制板和該墊 板由裸鋁制成，該墊圈是金屬和聚合物材料制成的層壓板。

4.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中該噴頭電極包括內 部電極和外部電極，該內部電極是由單晶硅制成的圓板，該外 部電極是由多個單晶硅分段組成的環形電極。

5.根據權利要求2所述的噴頭電極總成，其中該檔環的垂直壁在 其下端包括鄰近該接觸點的旁支，該噴頭電極總成進一步包括 位于該旁支中以便在這些接觸點的相對側形成密封的O形環。

6.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中這些緊固件包括螺 紋旋進該墊板的螺栓，這些墊圈包括位于其中的通孔，該螺栓 通過這些通孔進入該墊板。

7.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，進一步包括在該熱控制 板的上表面上的熱力壅塞。

8.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中該導熱且導電墊圈 不含銀、鎳和銅，這些接觸點覆蓋該墊板表面積的1％到30％。

9.根據權利要求1所述的噴頭電極總成，其中該噴頭電極包括硅 電極板，在其一側具有氣體出口，在與之相對的側面彈性體粘 合到由裸鋁制成的該墊板。

10.一種噴頭電極總成，包括：

噴頭電極，適于安裝在真空室內部并由射頻(RF)能量 供電；

連接到該噴頭電極的墊板；

通過多個緊固件在該墊板的多個接觸點連接到該墊板的 熱控制板，這些接觸點包括在該熱控制板的下表面上的間隔分 開的多個環形突出部；

至少一個導熱且導電墊圈，其在這些接觸點將該墊板和 該熱控制板分開，該至少一個導熱且導電墊圈包括大小適于覆 蓋這些環形突出部的多個環形墊圈；

該環形突出部之間的多個集氣室中的由陽極氧化處理的 鋁制成的擋環，每個擋環包括鄰近這些環形突出部之一的垂直 壁，該垂直壁在其下端包括鄰近該接觸點的旁支；以及

位于該旁支中以便在這些接觸點的相對側形成密封的O 形環；

其中該擋環的垂直壁的上端通過墊片與該熱控制板的下 表面分開，該墊片具有與該導熱且導電墊圈相同的厚度。

11.一種包括根據權利要求1所述的噴頭電極總成的真空室，進一 步包括：

溫度控制器；

電源，適于提供功率至加熱器，該加熱器熱響應該溫度 控制器而加熱該熱控制板；

流體控制器，適于響應該溫度控制器提供流體至該室的 溫度受控頂壁；和

溫度傳感器裝置，適于測量該噴頭電極一個或多個部分 的溫度，并提供信息至該溫度控制器，

其中該真空室的頂壁電接地。