[發(fā)明專(zhuān)利]全息記錄/再現(xiàn)設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880019962.4
• 申請(qǐng)日: 2008-01-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101681634A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭澤成;鄭文一
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G11B7/0065
• 分類(lèi)號(hào): G11B7/0065
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 韓明星;劉奕晴

1、一種將數(shù)據(jù)記錄到全息記錄介質(zhì)和/或從全息記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的全息記錄/再現(xiàn)設(shè)備，該設(shè)備包括：

光源，發(fā)射光；

光學(xué)系統(tǒng)，用于將發(fā)射的光分割為參考光束和信號(hào)光束，并將參考光束和信號(hào)光束提供到全息記錄介質(zhì)以形成干涉圖樣，以關(guān)于全息存儲(chǔ)介質(zhì)傳遞數(shù)據(jù)，

其中，所述光學(xué)系統(tǒng)提供信號(hào)光束，使得信號(hào)光束入射在全息記錄介質(zhì)的上表面上，提供參考光束，使得通過(guò)由全息記錄介質(zhì)與全息記錄介質(zhì)的外部之間的折射率差異引起的反射在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部引導(dǎo)參考光束。

2、如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)提供參考光束，使得參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的側(cè)面上，以便在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部引導(dǎo)參考光束。

3、如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，所述設(shè)備還包括：

反射鏡，面向全息記錄介質(zhì)的所述側(cè)面，反射來(lái)自所述光學(xué)系統(tǒng)的參考光束以使得所述參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的所述側(cè)面上。

4、如權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中，所述反射鏡是可旋轉(zhuǎn)的，以改變參考光束的入射角。

5、如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中：

全息記錄介質(zhì)包括側(cè)面，所述側(cè)面具有形成在其上的傾斜表面；

所述光學(xué)系統(tǒng)提供參考光束，使得參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的上表面的邊緣，從而參考光束被所述傾斜表面反射，以在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部被引導(dǎo)。

6、如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，所述設(shè)備還包括：

反射鏡，面向全息記錄介質(zhì)的上表面的邊緣，反射來(lái)自所述光學(xué)系統(tǒng)的參考光束以使得所述參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的所述傾斜表面上。

7、如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，所述反射鏡是可旋轉(zhuǎn)的，以改變參考光束的入射角。

8、如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)包括：

第一分束器，反射從光源發(fā)射的光中的第一光，透射從光源發(fā)射的光中的第二光；

空間光調(diào)制器(SLM)，將第二光調(diào)制為具有二維信號(hào)圖案的信號(hào)光束；

物鏡，將信號(hào)光束投射到全息記錄介質(zhì)上。

9、如權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)還包括：

第二分束器，將由第一分束器分割的第二光反射向SLM。

10、如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中：

所述SLM將信號(hào)光束反射向第二分束器；

第二分束器將信號(hào)光束透射向物鏡。

11、如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)還包括：

光電檢測(cè)器，檢測(cè)從全息記錄介質(zhì)再現(xiàn)的信號(hào)光束。

12、一種在全息記錄/再現(xiàn)設(shè)備中使用的全息記錄介質(zhì)，其中，所述全息記錄/再現(xiàn)設(shè)備提供信號(hào)光束，使得信號(hào)光束入射在全息記錄介質(zhì)的表面上，提供參考光束，使得在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部引導(dǎo)參考光束，其中，所述介質(zhì)包括：

信號(hào)光束入射在其上的表面；

傾斜表面，形成在全息記錄介質(zhì)的側(cè)面，以引導(dǎo)參考光束使得參考光束在所述介質(zhì)內(nèi)部由于所述介質(zhì)與所述介質(zhì)的外部之間的折射率差異而被反射。

13、如權(quán)利要求12所述的全息記錄介質(zhì)，其中，在所述傾斜表面的表面上形成反射涂層，以將參考光束反射到所述介質(zhì)中。

14、一種將光束投射到全息記錄介質(zhì)上，以將數(shù)據(jù)記錄在全息記錄介質(zhì)上和/或從全息記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的方法，所述方法包括：

提供信號(hào)光束，使得信號(hào)光束入射在全息記錄介質(zhì)的上表面上；

提供參考光束，使得通過(guò)由全息記錄介質(zhì)與全息記錄介質(zhì)的外部之間的折射率差異引起的反射在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部引導(dǎo)參考光束，從而與信號(hào)光束干涉，以利用信號(hào)光束關(guān)于所述介質(zhì)傳遞數(shù)據(jù)。

15、如權(quán)利要求14所述的方法，其中，提供參考光束的步驟包括：提供參考光束，使得參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的側(cè)面上，以便在全息記錄介質(zhì)內(nèi)部引導(dǎo)參考光束。

16、如權(quán)利要求15所述的方法，其中，提供參考光束，使得參考光束入射在側(cè)面上的步驟包括：

用反射鏡反射參考光束，使得所述參考光束入射在全息記錄介質(zhì)的所述側(cè)面上，所述側(cè)面基本垂直于所述上表面。