[發(fā)明專利]一種用于特定波長熱照射和處理的方法和系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880019102.0
• 申請日: 2008-06-09
• 公開（公告）號: CN101801625A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發(fā)明（設計）人: 唐·W.·科克倫;小諾埃爾·E.·摩根;丹伍德·E.·羅斯三世;馬克·W.·莫爾
• 申請（專利權）人: 普瑞斯克技術公司
• 主分類號: B29B13/02
• 分類號: B29B13/02;B29C35/08;B29C49/64;B29C49/68
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 11243
• 代理人: 鐘晶

1.一種用于在成型或加工操作之前非接觸熱處理具有多層或多個吸收峰的塑料目標組件的系統(tǒng)，其包含：

用于以促進輻射加熱的應用的方式設置所述塑料目標組件的位置的裝置；和

熱監(jiān)控部，塑料組件被設置于其中供曝光，所述熱監(jiān)控部包含用于發(fā)射與該組件的第一層所希望的吸收特性相匹配的至少第一窄波長帶的輻射能的第一組一種以上固態(tài)窄帶加熱元件，以及用于發(fā)射至少第二窄波長帶的輻射能的第二組一種以上固態(tài)窄帶輻射加熱元件。

2.一種在拉伸吹塑操作之前熱處理熱塑性預成型件的方法，該方法包括以下步驟：

輸送一系列預成型件通過吹塑機的熱監(jiān)控部的所選擇的加熱區(qū)；

在至少一個加熱區(qū)中旋轉(zhuǎn)所述系列預成型件中的每個預成型件；和

在旋轉(zhuǎn)的同時用基于窄帶照射的輻射加熱元件照射每個預成型件大約10秒或小于10秒，從而為了進一步的處理希望地、適當?shù)丶訜崴鲱A制件，所述窄帶元件用于發(fā)射窄波長帶的輻射。

3.如權利要求2所述的方法，其中小于10秒包括小于5秒、小于3秒、小于2秒、小于1秒和小于二分之一秒中的一種。

4.如權利要求2所述的方法，進一步包括以下步驟：

在進入所述熱監(jiān)控部之前測量即將進入的預成型件的內(nèi)表面和外表面的溫度以測定潛熱含量；

基于即將進入的預成型件的溫度產(chǎn)生控制信號以應用于所述窄帶輻射加熱元件；和

將這些控制信號傳遞到所述窄帶輻射加熱元件以獲得該預成型件的所希望的熱分布圖。

5.如權利要求4所述的方法，進一步包括分別測量各預成型件。

6.如權利要求2所述的方法，進一步包括照射各獨立的預成型件，利用所述的窄帶加熱元件獲得對該預成型件的恰當?shù)募訜幔鲈哂写笥?0,000小時的使用壽命。

7.如權利要求6所述的方法，進一步包括根據(jù)在所述預成型件的整個長度上獲得所希望的熱分布圖而需要的熱注入來照射各獨立的預成型件。

8.如權利要求6所述的方法，進一步包括根據(jù)在所述預成型件繞其長軸的旋轉(zhuǎn)圓周周圍獲得所希望的熱分布圖而需要的熱注入來照射各獨立的預成型件的能力。

9.如權利要求4所述的方法，其中所希望的截面熱分布圖導致預成型件從外表面到內(nèi)表面均勻地被加熱。

10.如權利要求4所述的方法，其中所希望的截面熱分布圖導致預成型件從外表面到內(nèi)表面不均勻地被加熱。

11.如權利要求2所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)包括改變轉(zhuǎn)速或照射量中的至少一個以獲得更均勻的加熱。

12.如權利要求2所述的方法，其中所述照射在大于1.2微米的范圍內(nèi)。

13.如權利要求2所述的方法，其中采用在大于1.2微米處發(fā)射的至少一個元件和在小于1.2微米處發(fā)射的另一個元件預先進行所述照射。

14.一種用于將窄帶輻射熱選擇性地注入目標的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含：

至少一個固態(tài)窄帶照射器件元件，所述至少一個窄帶照射元件用于發(fā)射在窄波長帶內(nèi)的輻射熱輸出用于所述目標的相關應用，選擇所述窄波長帶以符合相關目標材料的特定吸收特性，

安裝裝置，定位所述至少一個窄帶照射元件使得由其而來的照射對準目標，當所述目標在加熱區(qū)中時，所述安裝裝置用于使對準的輻射跟隨目標；和

用于給所述至少一個窄帶元件供應電流的裝置，由此發(fā)生直流電到光子輻射轉(zhuǎn)化過程。

15.如權利要求14所述的系統(tǒng)和方法，進一步包括一種照射系統(tǒng)，其利用已被選定與所述目標材料的吸收性能具體對應的輻射波長以具有所希望水平的通過目標截面的輻射加熱。

16.如權利要求14所述的系統(tǒng)，其中所述安裝裝置包括可旋轉(zhuǎn)的元件。

17.如權利要求16所述的系統(tǒng)，其中可旋轉(zhuǎn)的安裝裝置是旋轉(zhuǎn)爐結構，在該結構中，照射站與爐中在任何給定的時間下被加熱的各個目標相對應，并且在爐中在所述任何給定的時間下被加熱的各個目標被相應的照射站加熱。

18.如權利要求17所述的系統(tǒng)，其中所述結構包括多個照射站，并且各照射站能夠被用于供應電流的裝置分開控制以加熱相應的目標。