[發明專利]具有深度鑒別的光學再現的方法和裝置

有效

• 申請號: 200880018509.1
• 申請日: 2008-04-11
• 公開（公告）號: CN101680749A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發明（設計）人: 邁克爾·施韋特納
• 申請（專利權）人: 邁克爾·施韋特納
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;G02B21/00;G02B21/16;G06T7/00;G01N21/64
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 秦 晨

1.一種用于實施具有深度鑒別的光學再現的方法的產生光學截面 圖像的裝置，該裝置包括照明單元、用于把樣本成像到至少一個空間 分辨檢測器上的光學裝置、聚焦裝置以及信號處理單元，

其中，

照明單元在無需任何移動機械元件的情況下在樣本中或樣本上僅 產生兩種不同的照明分布，這些照明分布在至少一個空間方向上具有 周期性，產生照明分布的樣本平面與相應的空間分辨檢測器的平面共 軛，由于與照明光的相互作用而得到的樣本內的光分布被同時地登記 于所述一個或多個空間分辨檢測器上，并被提供給信號處理單元，以 便計算和產生光學截面圖像，

其中，進一步地，兩種照明分布同時被投影并被檢測，其中，用 于這兩種投影的光在偏振和/或光譜成分方面不同，其中，照明光的 這些不同性質導致從樣本同時發射的光分布的不同性質，并且從樣本 發射的光的這些性質用于在檢測側分離照明圖案。

2.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

為了校準在一個或多個檢測器上登記的光分布，存在校準物體， 校準物體代替樣本被插入，或者能夠被放到光學系統中的位置或安裝 在與樣本共軛的像平面中。

3.如權利要求2所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，存在所述校準物體以校準照明圖案的相位和/或局部周期 和/或均勻性。

4.如權利要求2所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，校準物體具有同質的和/或已知的樣本性質。

5.如權利要求2所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，校準物體是平坦的。

6.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

所述一個或多個空間分辨檢測器檢測從樣本發射的熒光和/或冷 光，其中，通過照明單元激發的時間調制結合同步檢測或時間分辨檢 測來實施，并且確定熒光和/或冷光壽命。

7.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

用于在樣本中或樣本上產生照明分布的照明單元使用透射和/或 反射中的掩模或相位掩模或像素化元件，或者通過平面波的干涉來產 生照明圖案。

8.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

照明單元產生兩種照明分布，這兩種照明分布彼此移位180度。

9.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

這兩種照明分布是通過掩模結構的前照明或后照明在照明單元內 產生的。

10.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

這兩種照明分布是通過光源的電子切換和/或光纖開關的切換在 照明單元內配置的。

11.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

該裝置允許對由照明單元發射的光和/或由所述至少一個空間分 辨檢測器登記的光的光譜成分進行切換。

12.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

在用于產生照明分布的照明單元內使用的掩模預安裝在部件更換 器內，其中，部件槽中的各掩模能夠在圖案尺寸或周期性方面不同， 光學系統內沿光軸的掩模的軸向位置能夠在各部件槽之間不同并能夠 被預對準，其中，掩模元件能夠組合成具有光譜濾波器的單元。

13.如權利要求1所述的產生光學截面圖像的裝置，

其中，

兩種照明分布同時投影到樣本上或樣本中并被檢測，其中，用于 這兩種投影的光在偏振和/或光譜成分方面不同，照明光的這些不同 性質導致從樣本同時發射的光分布的不同性質，從樣本發射的光的這 些性質用于在檢測側分離照明圖案，這兩種照明分布能夠同時分布到 一個或多個空間分辨檢測器。