[發(fā)明專利]用于實(shí)施基于模型的光刻引導(dǎo)的布局設(shè)計(jì)的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880018349.0
• 申請(qǐng)日: 2008-06-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101681093A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉軍;曹宇;馮函英
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 睿初科技公司
• 主分類號(hào): G03F1/14
• 分類號(hào): G03F1/14;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王新華

1.一種用于在掩模布局中布置亞分辨輔助特征的方法，包括步驟：

產(chǎn)生用于所述掩模布局的亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖，其中所述亞分辨輔 助特征引導(dǎo)圖是這樣的圖像：即，在所述圖像中如果像素被包括作為亞分 辨輔助特征的一部分，則每個(gè)像素值指示所述像素將是否對(duì)所述掩模布局 中的特征的邊緣行為提供正面貢獻(xiàn)；和

根據(jù)所述亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖在所述掩模布局中布置亞分辨輔助 特征，

其中，產(chǎn)生亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖的步驟包括：

計(jì)算所述掩模布局的圖像梯度圖；

對(duì)于在所述掩模布局中的每一個(gè)場(chǎng)點(diǎn)，采用所述圖像梯度圖計(jì)算在所 述場(chǎng)點(diǎn)處單元源的總的表決和；和

在所述亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖中分配值，其中在所述亞分辨輔助特征 引導(dǎo)圖中像素處的所述值是在所述掩模布局中對(duì)應(yīng)場(chǎng)點(diǎn)處的總的表決和。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，計(jì)算在所述場(chǎng)點(diǎn)處單元源的總 的表決和是在頻率域中執(zhí)行的并且包括步驟：

計(jì)算表示曝光工具的光學(xué)路徑的傳遞交叉系數(shù)的最重要的本征向量 的逆傅里葉變換；

計(jì)算所述掩模布局的傅里葉變換；

將所述逆傅里葉變換乘以頻率的平方和和所述掩模布局的傅里葉變 換以產(chǎn)生乘積結(jié)果；和

計(jì)算所述乘積結(jié)果的逆傅里葉變換以產(chǎn)生所述亞分辨輔助特征引導(dǎo) 圖。

3.一種具有包括亞分辨輔助特征的掩模布局的掩模，其中所述亞分辨 輔助特征根據(jù)亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖進(jìn)行布置，其中所述亞分辨輔助特征 引導(dǎo)圖是這樣的圖像：即，在所述圖像中如果像素被包括作為亞分辨輔助 特征的一部分，則每個(gè)像素值指示所述像素將是否對(duì)所述掩模布局中的特 征的通過(guò)焦距和通過(guò)劑量邊緣行為提供正面貢獻(xiàn)。

4.一種用于在掩模布局內(nèi)確定一個(gè)或更多個(gè)特征的位置的方法，包括 步驟：

在所述掩模布局內(nèi)布置第一特征；

基于所述第一特征的布置執(zhí)行掩模模擬，其中執(zhí)行所述掩模模擬的步 驟包括產(chǎn)生亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖，其中所述亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖是這 樣的圖像，即：如果像素被包括作為附加特征的一部分，則每個(gè)像素值指 示所述像素將是否對(duì)所述掩模布局中的特征的通過(guò)焦距和通過(guò)劑量邊緣 行為提供正面貢獻(xiàn)，所述產(chǎn)生亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖的步驟包括：計(jì)算所 述掩模布局的圖像梯度圖；對(duì)于在所述掩模布局中的每一個(gè)場(chǎng)點(diǎn)，采用所 述圖像梯度圖計(jì)算在所述場(chǎng)點(diǎn)處單元源的總的表決和；和在所述亞分辨輔 助特征引導(dǎo)圖中分配值，其中在所述亞分辨輔助特征引導(dǎo)圖中像素處的所 述值是在所述掩模布局中對(duì)應(yīng)場(chǎng)點(diǎn)處的總的表決和；和

基于從所述模擬中獲得的結(jié)果確定用于在所述掩模布局中布置第二 特征的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括步驟：

在所確定的位置布置所述第二特征；和

基于前面布置的特征反復(fù)地重復(fù)執(zhí)行掩模模擬的步驟，確定用于在所 述掩模布局內(nèi)布置另一特征的位置，并且布置所述另一特征直到所需數(shù)目 的特征已經(jīng)布置在所述掩模布局中。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括步驟：采用OPC最優(yōu)化所述 掩模布局。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括步驟：采用分辨率增強(qiáng)技術(shù)最 優(yōu)化所述掩模布局。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括步驟：產(chǎn)生多個(gè)布局引導(dǎo)圖， 其中每個(gè)布局引導(dǎo)圖表示掩模布局的模擬的成像性能。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述每個(gè)布局引導(dǎo)圖包括具有 多個(gè)像素值的兩維圖像，基于一個(gè)或更多個(gè)所述像素值計(jì)算特征的所述布 置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，每個(gè)所述像素值表示對(duì)布置 在所述像素上的一部分特征的所述掩模布局內(nèi)的一個(gè)或更多個(gè)圖案的可 印刷性的影響。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，對(duì)可印刷性的所述影響是負(fù) 面的影響。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中，布置在所述像素上的所述部 分特征提高所述一個(gè)或更多個(gè)圖案的可印刷性。