[發明專利]光學單元、照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件制造方法

有效

• 申請號: 200880018312.8
• 申請日: 2008-10-30
• 公開（公告）號: CN101681120A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發明（設計）人: 谷津修
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽 寧

1.一種光學單元，其特征在于，具備：

光分割器，將射入光束分割成沿著第1光路行進的第1光束、及沿著 與該第1光路不同的第2光路行進的第2光束；

空間調變元件，配置在該第1光路，具有二維排列并可個別控制的多 個光學元件；以及

第3光路，經過該第1光路的第1光束及經過該第2光路的第2光束 的光路；

該第2光路具有供表面具有既定固定圖案的角度分布賦予元件插入的 機構；

在該角度分布賦予元件插入該第2光路時，根據射入該角度分布賦予 元件的光對射出的光賦予角度分布。

2.如權利要求1所述的光學單元，其特征在于，其中，該第2光路的 該機構，具有供該角度分布賦予元件插入的空間。

3.如權利要求1或2所述的光學單元，其特征在于，其中，該角度分 布賦予元件具備具有該既定固定圖案的基板。

4.如權利要求1或2所述的光學單元，其特征在于，其中，該空間調 變元件，具有二維排列的多個反射鏡元件、以及個別控制驅動該多個反射 鏡元件的姿勢的驅動部。

5.如權利要求4所述的光學單元，其特征在于，其中，該驅動部使該 多個反射鏡元件的面向連續地變化。

6.如權利要求1或2所述的光學單元，其特征在于，其進一步具備合 成該第1及第2光束的光合成器；

該第3光路，藉由該光合成器合成的該第1及第2光束的光路。

7.如權利要求1或2所述的光學單元，其特征在于，其中，該光分割 器，具有將該射入光束分離成作為該第1光束的反射光束與作為該第2光 束的透射光束的分離膜。

8.如權利要求6所述的光學單元，其特征在于，其中，該光合成器， 具有將透過該空間調變元件的該第1光束分離成作為所需光束的反射光束 與作為不要光束的透射光束的分離膜。

9.如權利要求6所述的光學單元，其特征在于，其中，射入該光分割 器的該射入光束的行進方向與從該光合成器射出的射出光束在基準狀態的 行進方向為平行。

10.如權利要求1或2所述的光學單元，其特征在于，其中，該光學 單元，用于根據來自光源的光照明被照射面的照明光學裝置；

該第3光路，與該照明光學裝置的光軸一致或平行。

11.如權利要求9所述的光學單元，其特征在于，其中，該光學單元， 用于根據來自光源的光照明被照射面的照明光學裝置；

該射出光束在該基準狀態的行進方向，與該照明光學裝置的光軸一致 或平行。

12.一種照明光學裝置，根據來自光源的光照明被照射面，其特征在 于，具備：

權利要求10或11所述的光學單元；以及

分布形成光學系統，根據透過該空間調變元件及該角度分布賦予元件 的光束，在該照明光學裝置的照明光瞳形成既定光強度分布。

13.如權利要求12所述的照明光學裝置，其特征在于，其進一步具備： 照明光瞳分布測量部，以該照明光瞳或與該照明光瞳在光學上共軛的面測 量形成于該照明光瞳的既定光強度分布；以及控制部，根據該照明光瞳分 布測量部的測量結果，控制該光學單元中的該空間調變元件。

14.一種曝光裝置，其特征在于：

具備用以照明既定圖案的權利要求12或13所述的照明光學裝置，并 將該既定圖案曝光于感光性基板。

15.一種元件制造方法，其特征在于，包含：

曝光步驟，使用權利要求14所述的曝光裝置，將該既定圖案曝光于該 感光性基板；

顯影步驟，使轉印有該圖案的該感光性基板顯影，將對應該圖案的形 狀的光罩層形成于該感光性基板的表面；以及

加工步驟，透過該光罩層進行該感光性基板的表面的加工。