[發明專利]沉積設備無效
| 申請號： | 200880018116.0 | 申請日： | 2008-05-28 |
| 公開（公告）號： | CN101680077A | 公開（公告）日： | 2010-03-24 |
| 發明（設計）人： | 竹山輝茂;畦原吉史;井川誠一 | 申請（專利權）人： | 佳能安內華股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/00 | 分類號： | C23C14/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 張 濤 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種沉積設備，所述沉積設備通過用從等離子體發生裝置供應到室中的等離子體輻射來將從沉積材料分離的材料粒子沉積在沉積對象物上而形成薄膜，所述沉積設備包括：
適于容納所述沉積材料的容納裝置；和
捕獲裝置，所述捕獲裝置在向著所述沉積對象物運動的材料粒子的運動區域的范圍之外安裝在所述容納裝置附近，所述運動區域由所述沉積對象物的寬度和所述等離子體入射在所述沉積材料上的入射方向上的寬度確定，所述捕獲裝置捕獲至少部分從所述沉積材料分離且位于所述運動區域的范圍之外的材料粒子。
2.根據權利要求1所述的沉積設備，其中所述捕獲裝置包括：
網孔構件，所述網孔構件捕獲除向著所述沉積對象物運動的材料粒子之外的至少部分材料粒子，和
保持所述網孔構件的保持構件，并且
在所述網孔構件和所述保持構件之間形成具有預定距離的間隙，以便捕獲除向著所述沉積對象物運動的材料粒子之外的至少部分材料粒子。
3.根據權利要求1或2所述的沉積設備，其中所述捕獲裝置安裝在等離子體供應到室中的等離子體供應方向的下游且與所述供應方向相對。
4.根據權利要求1或2所述的沉積設備，其中所述捕獲裝置安裝成圍繞所述容納裝置。
5.根據權利要求2所述的沉積設備，其中所述捕獲裝置包括可拆卸地支撐所述保持構件的支架。
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