[發(fā)明專利]形成有間隔壁和像素的基板的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880018059.6 | 申請日: | 2008-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN101680983A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 石關(guān)健二;高橋秀幸 | 申請(專利權(quán))人: | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;G03F7/038;G03F7/075;G03F7/40;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/12;H05B33/22 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 馮 雅;胡 燁 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 形成 間隔 像素 制造 方法 | ||
1.一種形成有間隔壁和像素的基板的制造方法,其特征在于,經(jīng)過將下述感光性組合物涂布于基板的工序[11]、對感光性組合物的涂膜進行干燥的工序[12]、曝光工序[13]、顯影工序[14]、后曝光工序[15]在基板上形成間隔壁,經(jīng)過向作為由所述間隔壁分隔而成的區(qū)域的像素點內(nèi)注入油墨的工序[21]、對油墨的涂膜進行干燥的工序[22]形成將一個像素點內(nèi)的油墨層的膜厚的最大值設(shè)為h1、最小值設(shè)為h2時滿足(h1-h2)/h1<0.3的膜,從而獲得像素;
感光性組合物:包含1分子內(nèi)具有含以下述式1表示的基團或以下述式2表示的基團的側(cè)鏈和含乙烯性雙鍵的側(cè)鏈的聚合物(A)的感光性組合物;
-CFXRf(1)
式1中,X表示氫原子、氟原子或三氟甲基,Rf表示可具有醚性氧原子的碳數(shù)20以下且氫原子中的至少1個被氟原子取代了的烷基或者氟原子;
-(SiR1R2O)n-SiR1R2R3(2)
式2中,R1、R2獨立地表示氫原子、烷基、環(huán)烷基或芳基,R3表示氫原子或碳數(shù)1~10的有機基團,n表示1~200的整數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述注入油墨的工序[21]通過噴墨法、噴涂法或絲網(wǎng)印刷法進行。
3.如權(quán)利要求1或2所述的制造方法,其特征在于,在所述后曝光工序[15]之后,且在所述向像素點內(nèi)注入油墨的工序[21]之前,具有對間隔壁進行加熱處理的后烘烤工序[16]。
4.如權(quán)利要求1~3中的任一項所述的制造方法,其特征在于,在所述對油墨進行干燥的工序[22]之后,具備對油墨層進行加熱處理的工序[23]。
5.如權(quán)利要求1~4中的任一項所述的制造方法,其特征在于,所述后曝光工序[15]中,使用超高壓汞燈或高壓汞燈進行曝光。
6.如權(quán)利要求1~4中的任一項所述的制造方法,其特征在于,所述后曝光工序[15]中,使用低壓汞燈以500mJ/cm2以下的曝光量進行曝光。
7.一種彩色濾光片的制造方法,其特征在于,通過權(quán)利要求1~6中的任一項所述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。
8.一種有機EL元件的制造方法,其特征在于,通過權(quán)利要求1~6中的任一項所述的制造方法在基板上形成間隔壁和像素。
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