[發明專利]感光性組合物、方法、固化物以及液晶顯示裝置無效
| 申請號: | 200880018000.7 | 申請日: | 2008-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN101681103A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發明(設計)人: | 瑞穗右二;福井誠;高田芳宏;佐井經浩 | 申請(專利權)人: | 三菱化學株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/027 | 分類號: | G03F7/027;G02B5/20;G02F1/1335;G02F1/1339;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 | 代理人: | 徐申民;劉香蘭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性 組合 方法 固化 以及 液晶 顯示裝置 | ||
1.一種感光性組合物,該感光性組合物是用于用相同材料同時形成高度不同的固化物的感光性組合物,其特征在于,在將曝光部的殘膜率[t(%)]相對于曝光量的對數[logE(mJ/cm2)]制曲線的殘膜率-曝光量曲線中,將殘膜率的60%和90%的點連接的下述式(1)的直線的γ值為15以上、且不滿45,
t=γlogE+δ...(1)
這里,介由負掩膜圖形形成圖像時,殘膜率t(%)表示如下,
殘膜率[t(%)]={(各曝光量下的圖形高度)/(1000mJ/cm2曝光量下的圖形高度)}×100]。
2.根據權利要求1記載的感光性組合物,其特征在于,組合物的雙鍵當量為300以下。
3.根據權利要求1或2記載的感光性組合物,其特征在于,可以形成在由微小硬度計進行的負載-卸載試驗中滿足下述(1)、并且滿足下述(2)及/或(3)的固化物,
(1)變形量為1.4μm以上;
(2)彈性復原率為50%以上;
(3)回復率為80%以上。
4.根據權利要求1~3中任一項記載的感光性組合物,其特征在于,可以形成在由微小硬度計進行的負載-卸載試驗中滿足下述(2)及/或(3)、且滿足下述(4)的固化物,
(2)彈性復原率為50%以上;
(3)回復率為80%以上。
(4)底斷面積在25μm2以下。
5.根據權利要求1~4中任一項記載的感光性組合物,所述感光性組合物是用于用相同材料同時形成高度不同的固化物的感光性組合物,其特征在于,在形成時采用只含有一次曝光工序的形成方法,該曝光工序使用了曝光掩模。
6.根據權利要求5記載的感光性組合物,其特征在于,所述曝光掩模具有遮擋光的透過的遮光部和使光透過的多個開口部,部分開口部的平均光透過率小于其他開口部的平均光透過率。
7.一種用相同材料同時形成高度不同的固化物的方法,其特征在于,使用了這樣的感光性組合物,所述感光性組合物在將曝光部的殘膜率[t(%)]相對于曝光量的對數[logE(mJ/cm2)]制曲線的殘膜率-曝光量曲線中,將殘膜率的60%和90%的點連接的下述式(1)的直線的γ值為15以上、且不滿45,
t=γlogE+δ...(1)
這里,介由負掩膜圖形形成圖像時,如下表示殘膜率t(%),
殘膜率[t(%)]={(各曝光量下的圖形高度)/(1000mJ/cm2曝光量下的圖形高度)}×100]。
8.根據權利要求7記載的方法,其特征在于,使用權利要求2~6中任一項記載的感光性組合物。
9.根據權利要求7或8記載的方法,其特征在于,只含有一次曝光工序。
10.根據權利要求9記載的方法,其特征在于,曝光工序是使用曝光掩模進行的,所述曝光掩模具有遮擋光的透過的遮光部和使光透過的多個開口部,部分開口部的平均光透過率小于其他開口部的平均光透過率。
11.一種固化物,其特征在于,由權利要求1~6中任一項所記載的感光性組合物形成。
12.根據權利要求11記載的固化物,其特征在于,所述固化物是用相同材料同時形成的高度不同的固化物。
13.一種固化物,由權利要求7~10中任一項記載的方法形成。
14.一種液晶顯示裝置,具有權利要求11~13中任一項記載的固化物。
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