[發明專利]光拾取裝置用物鏡光學元件及光拾取裝置有效
| 申請號: | 200880017464.6 | 申請日: | 2008-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN101681645A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發明(設計)人: | 中村健太郎 | 申請(專利權)人: | 柯尼卡美能達精密光學株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/135 | 分類號: | G11B7/135 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 金春實 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拾取 裝置 物鏡 光學 元件 | ||
1.一種光拾取裝置用物鏡光學元件,是備有射出波長λ1nm 的第1光束的第1光源、射出波長λ2nm的第2光束的第2光源、 射出波長λ3nm的第3光束的第3光源的光拾取裝置用的物鏡光 學元件,物鏡光學元件的特征在于,
所述物鏡光學元件至少備有1個塑料透鏡,
所述物鏡光學元件的光學面至少包括含光軸的中央區域、被配置 在所述中央區域周圍的中間區域、被配置在所述中間區域周圍的周邊 區域之3個區域,
所述物鏡光學元件使穿過所述中央區域和所述中間區域及所述 周邊區域的所述第1光束經厚度t1的保護基板聚光于第1光盤的信 息記錄面從而能夠進行信息的記錄/再生、使穿過所述中央區域和所 述中間區域的所述第2光束經厚度t2的保護基板聚光于第2光盤的 信息記錄面從而能夠進行信息的記錄/再生、使穿過所述中央區域的 所述第3光束經厚度t3的保護基板聚光于第3光盤的信息記錄面從 而能夠進行信息的記錄/再生,
所述中央區域備有第1溫度特性修正構造,該第1溫度特性修正 構造具有多個同心圓狀環帶形高低差,
所述中間區域備有第2溫度特性修正構造,該第2溫度特性修正 構造具有多個同心圓狀環帶形高低差,
所述周邊區域備有第3溫度特性修正構造,該第3溫度特性修正 構造具有多個同心圓狀環帶形高低差,
所述第1溫度特性修正構造是下述光程差付與構造:使穿過所述 第1溫度特性修正構造的所述第1光束的r次衍射光量大于其他任何 次數的衍射光量、使穿過所述第1溫度特性修正構造的所述第2光束 的s次衍射光量大于其他任何次數的衍射光量、使穿過所述第1溫度 特性修正構造的所述第3光束的t次衍射光量大于其他任何次數的衍 射光量,
所述第2溫度特性修正構造是下述光程差付與構造:使穿過所述 第2溫度特性修正構造的所述第1光束的u次衍射光量大于其他任 何次數的衍射光量、使穿過所述第2溫度特性修正構造的所述第2 光束的v次衍射光量大于其他任何次數的衍射光量,
所述第3溫度特性修正構造是下述光程差付與構造:使穿過所述 第3溫度特性修正構造的所述第1光束的x次衍射光量大于其他任何 次數的衍射光量,
(r、s、t)=(10、6、5)或(2、1、1),
(u、v)=(10、6)、(5、3)或(2、1),
x為任意整數,
λ1<λ2,λ2<λ3,t1<t2,t2<t3。
2.如權利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特征 在于,
(r、s、t)=(2、1、1),
(u、v)=(5、3)或(2、1),
x=1~5。
3.如權利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特征 在于,所述第1溫度特性修正構造和所述第2溫度特性修正構造合成 的復合構造,是隨離開光軸的高度升高而光軸方向變深,以所定高度 為界,隨離開光軸的高度升高而光軸方向變淺。
4.如權利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特征 在于,所述第1溫度特性修正構造和所述第2溫度特性修正構造及所 述第3溫度特性修正構造合成的復合構造,是隨離開光軸的高度升高 而光軸方向變深,以所定高度為界,隨離開光軸的高度升高而光軸方 向變淺。
5.如權利要求4中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特征 在于,在光軸方向的高度達到所述第3溫度特性修正構造之前,所述 復合構造的光軸方向的深度返回。
6.如權利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特征 在于,形成所述物鏡光學元件的塑料在-5℃到70℃的溫度范圍 內,伴隨溫度變化的對波長405nm的折射率變化率dN/dT℃-1在-20×10-5至-5×10-5的范圍內。
7.如權利要求1中記載的光拾取裝置用物鏡光學元件,其特 征在于,所述物鏡光學元件包括平板狀光學元件和非球面透鏡。
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