[發明專利]光罩用基板、光罩用基板的成形構件、光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法

有效

• 申請號: 200880015374.3
• 申請日: 2008-04-22
• 公開（公告）號: CN101681092A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發明（設計）人: 阿邊哲也;新田祐平;木村幸泰
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F1/14
• 分類號: G03F1/14;H01L21/027
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 李今子

【技術領域】

平面面板顯示器(以下，稱為FPD)等設備，是通過使用光刻技術， 使形成于光罩(photo?mask)的光罩圖案(mask?pattern)高精度投影曝 光于設備基板的表面來制造。因此，光罩變形時形成于光罩的光罩圖 案也會產生變形，其結果，投影于設備基板的光罩圖案像也會產生變 形。

因此，探討下述課題，即為了提升光罩的平坦性，進行除去光罩 基板的一部分凸部分的加工，以改善基板的平面性(參照專利文獻1、 專利文獻2、及專利文獻3)。

專利文獻1：日本特開2003-292346

專利文獻2：日本特開2004-359544

專利文獻3：日本特開2005-262432

然而，通過使形成于光罩的光罩圖案投影曝光于基板來制造FPD 等設備的曝光裝置中，已知一邊以形成有光罩圖案的面朝向下方的方 式將光罩大致水平地保持在曝光裝置，一邊使形成于光罩的光罩圖案 曝光于基板。此時，由于曝光裝置的構成上的限制，光罩在包圍下面 (亦即形成有光罩圖案的面)的四邊之中，相對向的一組兩個邊附近的 區域被支持。以此方式被支持的光罩，被支持的一組邊之間的區域， 會因本身重量向下面側彎曲而下垂般地變形。此處，將此變形稱為第 1變形。又，同時，在未被支持的兩個邊(自由端)的附近，會進一步 向下方彎曲而下垂般地變形。此處，將此變形稱為第2變形。由于此 種光罩的變形，形成于光罩下面的光罩圖案也恐怕會產生如上述說明 的變形。

為了使如此變形的光罩圖案正確地成像、曝光于基板上，曝光裝 置的投影光學系統具有自動聚焦功能。然而，投影光學系統的自動聚 焦功能的聚焦深度對第1變形有效，但相對于此，第2變形造成的影 響有超過聚焦深度的范圍的傾向。又，伴隨光罩的大型化，第2變形 顯著變大，產生進一步自投影光學系統的聚焦深度的范圍內脫離的問 題。

相對于此問題，即使專利文獻1～3所探討般地使平面性良好， 也無法應對因基板本身重量而變形的問題。

【發明內容】

本發明的目的在于提供一種可抑制因本身重量導致的光罩基板 的第2變形所引起的光罩基板的從所期望的光罩圖案的變形，使光罩 圖案投影曝光于設備基板上的光罩用基板、光罩用基板的成形構件、 光罩用基板的制造方法、光罩、及使用光罩的曝光方法。

本發明的光罩用基板，是由厚度實質上均一的板狀構件構成的光 罩用基板，其特征在于：具備由連續曲面構成的、待形成光罩圖案的 第1面、及與第1面相對向的第2面；第1面呈由相對向的一對第1 組的邊、及以連結該第1組的邊的方式延伸的相對向的一對第2組的 邊構成的四邊形，沿著第1組的各邊的端部具有用以支持光罩用基板 的支持部；以第1面實質上呈鉛直狀態的方式保持光罩用基板時，以 通過光罩用基板的重心且延伸于光罩用基板的厚度方向的軸線與第1 面相交的交點作為第1面的中心點；將與中心點處的第1面的切平面 平行的參照平面，定義在對光罩用基板而言比第2面接近第1面的一 側時，第1面的中心點與參照平面之間的沿著厚度方向的第1距離， 短于第2組的各邊的中點與參照平面之間的沿著厚度方向的第2距 離。此處，本說明書的切平面，是包含在曲面上的一點處、與此曲面 相切的所有切線的平面。

以第1面實質上呈鉛直狀態的方式保持光罩用基板時，在第2 組的各邊中，該邊的第1組的邊側的部分與參照平面之間的沿著厚度 方向的距離短于第2距離也可。又，以第1面實質上呈鉛直狀態的方 式保持光罩用基板時，對于第1組的各邊上的任一點，該第1組的邊 上的點與參照平面之間的沿著厚度方向的距離實質上相同也可。

以第1面實質上呈鉛直狀態的方式保持光罩用基板時，第1組的 各邊的中點與參照平面之間的沿著厚度方向的距離與第1距離實質上 相同也可。

以第1面實質上呈鉛直狀態的方式保持光罩用基板時，第1組的 各邊的中點與參照平面之間的沿著厚度方向的距離短于第1距離也 可。

以第1面實質上呈鉛直狀態的方式保持光罩用基板時，對于第2 組的各邊上的任一點，該第2組的邊上的點與參照平面之間的沿著厚 度方向的距離實質上相同也可。

上述光罩用基板中，具備用以辨別第1面與第2面的標記也可。 上述光罩用基板中，基板由石英玻璃構成也可。