[發明專利]用于故障檢驗和過程監測的輻射光學監測系統的校準

有效

• 申請號: 200880015308.6
• 申請日: 2008-05-06
• 公開（公告）號: CN101689222A
• 公開（公告）日: 2010-03-31
• 發明（設計）人: 麥克·威倫;安德魯·威克斯·昆尼;凱尼斯·C·哈飛;約翰·道格拉斯·柯萊斯
• 申請（專利權）人: 真實儀器公司
• 主分類號: G06F19/00
• 分類號: G06F19/00
• 代理公司: 宜昌市三峽專利事務所
• 代理人: 成 鋼

1.一種用于故障檢驗和過程監測的輻射光學監測系統校準方法，包括步 驟：

將第一攝譜儀校準到本地基本標準；

在第一攝譜儀處從第一光源接收光，其中所述第一光源發射多個未知的光 譜強度；

在第二攝譜儀處從所述第一光源接收光；

響應于在所述第一攝譜儀處從所述第一光源接收光，產生經校準的光譜信 息；

響應于在所述第二攝譜儀處從所述第一光源接收光，產生未校準的光譜信 息；以及

將所述第二攝譜儀校準到由所述第一攝譜儀產生的經校準的光譜信息。

2.權利要求1所述的校準方法，其中所述本地基本標準是經校準的光電探 測器，其具有來源于已知標準的響應，并且將第一攝譜儀校準到本地基本標準 的步驟進一步包括：

在所述第一攝譜儀處從第二光源接收光；

在所述經校準的光電探測器處從所述第二光源接收光；

響應于在所述經校準的光電探測器處從所述第二光源接收光，產生經校準 的光譜信息；

響應于在所述第一攝譜儀處從所述第二光源接收光，產生未校準的光譜信 息；以及

將所述第一攝譜儀校準到由所述經校準的光電探測器產生的經校準的光譜 信息。

3.權利要求2所述的校準方法，其中所述已知標準是國家標準和技術協會 標準。

4.權利要求1所述的校準方法，其中所述本地基本標準是第二光源。

5.權利要求4所述的校準方法，其中所述第二光源發射多個已知的光譜強 度。

6.權利要求5所述的校準方法，其中由所述第二光源發射的所述已知光譜 強度來源于國家標準和技術協會標準。

7.權利要求4所述的校準方法，其中所述第一和第二攝譜儀同時從所述第 一光源接收光。

8.權利要求1所述的校準方法，其中將所述第二攝譜儀校準到由所述第一 攝譜儀產生的經校準的光譜信息的步驟進一步包括：

將由所述第二攝譜儀產生的所述未校準的光譜信息與由所述第一攝譜儀產 生的所述經校準的光譜信息進行比較；以及

基于對由所述第二攝譜儀產生的所述未校準的光譜信息與由所述第一攝譜 儀產生的所述經校準的光譜信息的所述比較，產生校正系數。

9.權利要求1所述的校準方法，進一步包括：

在第三攝譜儀處從所述第一光源接收光；

響應于在所述第三攝譜儀處從所述第一光源接收光，產生未校準的光譜信 息；以及

將所述第三攝譜儀校準到由所述第一攝譜儀產生的所述經校準的光譜信 息。

10.權利要求1所述的校準方法，進一步包括：

將所述第二攝譜儀光學耦合到光學耦合系統，所述光學耦合系統具有通過 量等級；

通過所述光學耦合系統從所述第一光源接收光；以及

響應于所述光學耦合系統的通過量等級，改變所述第二攝譜儀的校準。

11.權利要求10所述的校準方法，其中所述光學耦合系統進一步包括光纖， 該方法進一步包括：

記錄所述光纖的空間構造。

12.權利要求11所述的校準方法，進一步包括：

將所述第二攝譜儀的校準微調到第三光源。

13.權利要求12所述的校準方法，其中將所述第二攝譜儀的校準微調到第 三光源的步驟包括：

將所述光學耦合系統光學耦合到布置在加工腔室上的用于觀察所述加工腔 室內部的視窗；

在所述第二攝譜儀處從所述第三光源接收光；

將所述第二攝譜儀的校準調整到與所述第三光源相關聯的光譜信息。

14.權利要求13所述的校準方法，其中所述第三光源發射單一光譜波長的 光。

15.權利要求13所述的校準方法，其中所述第三光源發射多個光譜波長的 光。