[發明專利]具有改進的氣流液滴偏轉的打印機有效
| 申請號: | 200880015279.3 | 申請日: | 2008-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN101678676A | 公開(公告)日: | 2010-03-24 |
| 發明(設計)人: | R·C·布羅斯特;D·J·奈爾遜;B·A·菲利普斯;J·E·約卡蒂;T·R·格里芬;M·F·鮑默;R·J·西蒙;M·S·漢查克;J·A·凱特伯格;T·W·斯坦納;Z·高;J·徐;J·C·小布拉扎斯;D·L·簡麥爾 | 申請(專利權)人: | 伊斯曼柯達公司 |
| 主分類號: | B41J2/09 | 分類號: | B41J2/09 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 朱鐵宏;楊松齡 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 改進 氣流 偏轉 打印機 | ||
1.一種打印裝置,包括:
液滴發生器,其可用來由穿過與所述液滴發生器相關聯的噴嘴所 噴出的液體有選擇地形成具有第一尺寸的液滴和具有第二尺寸的液 滴,具有所述第一尺寸的液滴和具有所述第二尺寸的液滴沿著液滴軌 跡行進,當相互比較時,所述第一尺寸大于所述第二尺寸,各所述液 滴均具有液滴速度;
氣流偏轉系統,其包括在偏轉區受到引導的氣流,所述偏轉區包 括所述液滴軌跡的至少一部分,所述偏轉區中的氣流包括具有平行的 速度分量和垂直的速度分量的速度矢量,所述平行的速度分量和所述 垂直的速度分量相對于所述液滴軌跡定義,所述平行的速度分量大于 0.25倍的所述液滴速度并小于1.75倍的所述液滴速度,以及所述垂直 的速度分量足夠使具有所述第一尺寸的液滴和具有所述第二尺寸的 液滴偏轉至第一尺寸液滴的軌跡和第二尺寸液滴的軌跡;以及
捕集器,其相對于所述第一液滴尺寸的軌跡和所述第二液滴尺寸 的軌跡中的一個軌跡定位,使得沿著所述第一液滴尺寸的軌跡和所述 第二液滴尺寸的軌跡中的一個軌跡行進的液滴由所述捕集器截留,而 沿著所述第一液滴尺寸的軌跡和所述第二液滴尺寸的軌跡中的另一 個軌跡行進的液滴未被所述捕集器截留。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述平行的速度 分量大于0.5倍的所述液滴速度。
3.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述平行的速度 分量大于0.75倍的所述液滴速度。
4.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述平行的速度 分量大于0.9倍的所述液滴速度。
5.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述氣流偏轉系 統包括相對于所述液滴軌跡成一定角度定位的管道,使得所述氣流相 對于所述液滴軌跡成一定角度引導至所述偏轉區,其中,所述管道的 相對于所述液滴軌跡的角度與所述平行的速度分量同所述垂直的速 度分量的比率有關。
6.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述管道為第一 管道并相對于所述液滴軌跡的第一側定位,所述裝置還包括:
定位在所述液滴軌跡的第二側上的第二管道,所述第二管道為用 于穿過所述偏轉區的氣流的出口。
7.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括 相對于所述液滴軌跡定位的結構,使得在所述第一尺寸液滴的軌跡和 所述第二尺寸液滴的軌跡中的一個軌跡超出所述偏轉區之后,所述氣 流的一部分與所述第一尺寸液滴的軌跡和所述第二尺寸液滴的軌跡 中的一個軌跡大致對齊。
8.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述結構為定位 在所述液滴軌跡的第二側上的捕集器。
9.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述氣流的對齊 部分具有大于0.5倍的所述液滴速度的速度分量。
10.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于,所述第一管道包 括出口部分,所述第二管道包括入口部分,其中,所述第二管道的入 口部分平行于所述第一管道的出口部分定位。
11.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
室結構,其定位成將第二氣流朝向所述偏轉區引導,所述第二氣 流大致平行于所述液滴軌跡。
12.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述捕集器在與 所述氣流偏轉系統的管道相同的一側相對于所述液滴軌跡定位,使得 具有所述第一尺寸的液滴由所述捕集器截留。
13.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述捕集器在與 所述氣流偏轉系統的管道相反的一側相對于所述液滴軌跡定位,使得 具有所述第二尺寸的液滴由所述捕集器截留。
14.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述管道包括在 第一側相對于所述液滴軌跡定位的壁,所述管道包括在第二側相對于 所述液滴軌跡定位的第二結構,所述第二結構包括前表面,其中,所 述結構的前表面大致平行于所述管道的壁。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于伊斯曼柯達公司,未經伊斯曼柯達公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200880015279.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





