[發明專利]高速率和高抗碎強度吸附劑

有效

• 申請號: 200880015210.0
• 申請日: 2008-03-10
• 公開（公告）號: CN101678314A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發明（設計）人: J·鄭;S·J·蓬托尼奧;N·A·斯蒂芬森;P·A·巴雷特
• 申請（專利權）人: 普萊克斯技術有限公司
• 主分類號: B01J20/18
• 分類號: B01J20/18;B01J20/28;B01D53/047
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 李 進;林 森

1.一種吸附劑顆粒集合體，所述吸附劑顆粒包含吸附劑和二氧化硅粘合劑，通過包含混合、附聚和煅燒的步驟的方法形成，?

其中所述二氧化硅粘合劑在形成方法的混合和/或附聚階段以膠態溶液形式被使用，且其中在吸附劑顆粒中的粘合劑含量不大于15wt％，該含量是基于干重計通過下式來測定的：?

粘合劑的干重/(吸附劑的干重+粘合劑的干重)×100；?

其中所述吸附劑顆粒集合體具有以所述吸附劑顆粒集合體的Li形式所測量的大于或等于4.0mmol?mm²/gs的SCRR/ε_p，在所述Li形式中，所述吸附劑顆粒集合體的至少90％的可交換陽離子已被Li交換，其中交換度被表示成存在在四面體位置的、吸附劑的Li陽離子的數目和鋁原子的數目的比率，且其中當這種吸附劑顆粒具有至少1.0mm的平均粒度時，所述吸附劑顆粒具有至少0.9?lbf的平均抗碎強度；?

其中所述吸附劑顆粒集合體經受離子交換和活化，使得所述二氧化硅粘合劑含量不超過被離子交換的吸附劑顆粒集合體的18wt％，且?

其中ε_p是孔隙率且SCRR通過下式測定：?

SCRR(p)＝RR(p)*[d_顆粒]²；?

其中d_顆粒是得自粒度分布的平均直徑，(p)是系統的總壓力，且相對速率被定義為：?

RR(p)＝[ΔN₂(Y_F，Y_O)]/(t₂-t₁)；?

其中ΔN₂是Y_o至Y_F的氮負載量；Y_F是氧的摩爾分數等于0.209的進料的成分，Y_o是氧的摩爾分數等于0.9999的再生氣體的成分，t₂是當氧的摩爾分數Y₂具有指定值時的時間，且t₁是當氧的摩爾分數Y₁具有指定值時的時間。?

2.權利要求1的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體包含沸石X。?

3.權利要求2的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體包含低二氧化硅沸石X。?

4.權利要求2或3的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體包含LiX、NaX、LiLSX、NaLSX或NaY顆粒。?

5.權利要求4的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體包括LiX顆粒，在該LiX顆粒中，所述顆粒集合體的至少95％的可交換陽離子已被Li交換，其中交換度被表示成存在于四面體位置的、吸附劑的Li陽離子的數目和鋁原子的數目的比率。?

6.權利要求4的顆粒集合體，其中所述顆粒的平均抗碎強度為至少1.0?lbf。?

7.權利要求1的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體包含具有至少為1.5mm的平均直徑的吸附劑顆粒。?

8.權利要求1的顆粒集合體，其中所述顆粒集合體在沒有苛性堿消化的步驟的情況下被形成。?

9.一種氣體分離方法，該方法包含：?

將包含較不容易吸附的成分和較容易吸附的成分的原料氣引入至少一個吸附床中；?

使原料氣在所述至少一個吸附床中的顆粒集合體上通過，所述顆粒包含吸附劑和二氧化硅粘合劑，因而所述較容易吸附的成分被吸附；和?

回收富含較不容易吸附的成分的產物氣體；?

其中所述顆粒集合體為權利要求1所述的顆粒集合體。?