[發(fā)明專利]含有可溶性金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的化學(xué)機(jī)械拋光組合物及其使用方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880014807.3
• 申請(qǐng)日: 2008-05-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101675138A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丹尼拉·懷特;約翰·帕克
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡伯特微電子公司
• 主分類號(hào): C09K3/14
• 分類號(hào): C09K3/14;B24B37/00;H01L21/304
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 宋 莉

1.用于對(duì)含釕基材進(jìn)行拋光的方法，包括在過(guò)氧化氫的存在下使用化學(xué) 機(jī)械拋光組合物對(duì)所述基材的表面進(jìn)行研磨，所述組合物包含：

(a)包含水溶性金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物、金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的能氧化的前 體、或其組合的催化氧化劑，所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物及其前體各自具有能 在化學(xué)機(jī)械拋光期間被過(guò)氧化氫氧化以產(chǎn)生所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的還 原形式；

(b)顆粒研磨劑；和

(c)含水載體；

所述組合物還包括過(guò)氧化氫，其中所述過(guò)氧化氫以1～5重量％的量存在 于所述組合物中。

2.用于對(duì)含釕基材進(jìn)行拋光的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法，包括如下步 驟：

(a)在過(guò)氧化氫的存在下，使基材表面與拋光墊和含水CMP組合物接觸； 和

(b)使所述拋光墊和所述基材之間發(fā)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)，同時(shí)保持所述CMP組 合物和過(guò)氧化氫的一部分與在所述墊和所述基材之間的表面接觸一段足以 從所述表面磨除存在于所述基材中的至少一部分釕的時(shí)間；

其中所述CMP組合物包含：(i)包含水溶性金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物、金屬 過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的能氧化的前體、或其組合的催化氧化劑，所述金屬過(guò)氧酸 鹽絡(luò)合物及其前體各自具有在化學(xué)機(jī)械拋光期間能被過(guò)氧化氫氧化以產(chǎn)生 所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的還原形式；(ii)顆粒研磨劑；和(iii)含水載體。

3.權(quán)利要求2的方法，其中所述顆粒研磨劑以0.5～10重量％的量存在 于所述組合物中。

4.權(quán)利要求2的方法，其中所述顆粒研磨劑具有5～50nm的平均粒度。

5.權(quán)利要求2的方法，其中所述催化氧化劑以0.05～1重量％的量存在 于所述組合物中。

6.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物包括同金屬過(guò)氧酸 鹽化合物。

7.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物包括同過(guò)氧鎢酸鹽 化合物。

8.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物包括過(guò)氧鈦酸鹽化 合物。

9.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物包括氫過(guò)氧化硅酸 鈦化合物。

10.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物包括雜金屬過(guò)氧 酸鹽化合物。

11.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的能氧化的前體 包括酸性含鎢化合物。

12.權(quán)利要求11的方法，其中所述酸性含鎢化合物選自鎢酸、多鎢酸、 磷鎢酸、以及前述物質(zhì)中的兩種或更多種的組合。

13.權(quán)利要求2的方法，其中所述金屬過(guò)氧酸鹽絡(luò)合物的能氧化的前體 包括鈦酸鹽化合物。

14.權(quán)利要求13的方法，其中所述鈦酸鹽化合物選自檸檬酸鈦(IV)絡(luò)合 物、乳酸鈦(IV)絡(luò)合物、及其組合。