[發明專利]可分散納米顆粒

無效

• 申請號: 200880014805.4
• 申請日: 2008-04-22
• 公開（公告）號: CN101720343A
• 公開（公告）日: 2010-06-02
• 發明（設計）人: C·布萊恩;M·鮑曼;C·金茨勒
• 申請（專利權）人: 瓦克化學股份公司
• 主分類號: C09C1/30
• 分類號: C09C1/30;C09C3/12
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

1.粉狀顆粒(P)，在其表面上具有通式[1]的基團，

-O_1+n-SiR¹_2-n-B????[1]，

其中在pH為1-12的水中分散之后的顆粒(P)的平均粒徑小于或等于200nm，其通過光子相關譜以Z平均的形式測定為平均流體力學等效直徑，且其中

R¹是任選取代的具有1-12個碳原子的脂肪族或芳香族烴基，

B是包含至少一個有機酸官能或其鹽的任選取代的脂肪族或芳香族烴基，和

n采取數值0、1或2。

2.權利要求1的顆粒，其特征在于B含有任選取代的烴基，所述烴基包含至少一個羧酸[-C(O)OH]、膦酸[-P(O)(OH)(OR²)、-O-P(O)(R²)(OR²)]或磺酸[-S(O)₂(OH)]官能或其鹽，

其中R²是任選取代的脂肪族或芳香族烴基。

3.權利要求1或2的顆粒，其特征在于，所述顆?；谀z體氧化硅或金屬氧化物。

4.權利要求3的顆粒，其特征在于，所述顆粒基于硅溶膠。

5.權利要求1-4之一的顆粒，其特征在于，在液體介質中的分散體中的顆粒(P)的平均粒徑——通過光子相關譜以Z平均的形式測定為平均流體力學等效直徑——不超過200nm。

6.一種制備在其表面具有通式[1]的基團的粉狀顆粒(P)的方法，

-O_1+n-SiR¹_2-n-B????[1]，

所述顆粒可通過兩步法制備，其中

(a)在第一步中，顆粒(P1)與至少一種通式[2]或[3]的硅烷(S)和/或其衍生的水解或縮合產物，或由所述硅烷(S)和其衍生的水解或縮合產物組成的混合物反應，在顆粒(P)的制備過程中，通式[3]的基團C轉化成基團B，

X_1+nSiR¹_2-n-B????[2]，

X_1+nSiR¹_2-n-C????[3]，

和

(b)在第二步中，顆粒(P)被分離成粉末，在pH為1-12的水中分散后的顆粒(P)的最大尺寸為200nm，其平均粒徑相當于分離成粉末前的顆粒的平均粒徑的0.5-20倍，顆粒(P)的平均粒徑通過光子相關譜以Z平均的形式測定為平均流體力學等效直徑。

其中

X是鹵素、羥基或烷氧基、羧酸鹽、烯醇化物或硅烷氧基團-O-Si≡，

R¹是任選取代的具有1-12個碳原子的脂肪族或芳香族烴基，

B是包含至少一個有機酸官能或其鹽的任選取代的脂肪族或芳香族烴基，

C是能通過水解轉化成基團B的官能烴基，和

n是數值0、1或2。

7.權利要求6的制備顆粒(P)的方法，其特征在于，所述硅烷(S)具有通式[4]-[8]的結構，

其中

R⁴是氫或具有1-6個碳原子的任選取代的脂肪族烴或芳香族烴，

R⁵是具有1-6個碳原子的任選取代的脂肪族烴或芳香族烴，

R⁶是具有1-6個碳原子的任選取代的脂肪族烴或芳香族烴，和

Z是OH、OR⁶、鹵素原子或基團OW，和

W是金屬陽離子或銨離子。

8.權利要求6或7的制備顆粒(P)的方法，其特征在于，所用的起始顆粒是膠體氧化硅或金屬氧化物顆粒。

9.權利要求8的制備顆粒(P)的方法，其特征在于，用硅溶膠作為所述起始顆粒。

10.一種制備包含權利要求1-6之一的顆粒或通過權利要求7-9之一制備的顆粒的分散體的方法，其特征在于，通過顆粒(P1)與硅烷(S)在期望的分散介質中反應制備顆粒(P)。

11.一種分散體，其特征在于，所述分散體包含權利要求1-6之一的顆?；蛲ㄟ^權利要求7-9之一制備的顆粒。

12.調色劑、顯影劑、電荷控制劑、復合材料中的填料、紙張涂料、Pickering乳液、用于拋光半導體組件的顆粒磨料懸浮液、吸附劑、離子交換劑，其特征在于，它們包含權利要求1-6之一的顆?；蛲ㄟ^權利要求7-9之一制備的顆粒。